[实用新型]一种取向调试基板有效
| 申请号： | 201220221956.0 | 申请日： | 2012-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN202661755U | 公开（公告）日： | 2013-01-09 |
| 发明（设计）人： | 李辉;赵承潭;邵勇 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 | 代理人： | 张颖玲;程立民 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种取向调试基板，该取向调试基板包括：基板、平行的多个条状凸起、取向膜；所述平行的多个条状凸起位于所述基板上；所述取向膜位于所述基板和所述平行的多个条状凸起上。根据本实用新型的技术方案，增加取向布中毛发与基板的接触面积，提高取向工艺的均一性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 取向 调试 | ||
【主权项】：
一种取向调试基板，其特征在于，该取向调试基板包括：基板、平行的多个条状凸起、取向膜；所述平行的多个条状凸起位于所述基板上；所述取向膜位于所述基板和所述平行的多个条状凸起上。
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