[实用新型]一种取向调试基板

说明书

技术领域

本实用新型涉及液晶显示装置的取向技术，尤其涉及一种取向调试基板。

背景技术

近年来，液晶显示技术快速发展并应用到许多领域，液晶显示的原理为：通过改变施加在液晶上的电压改变液晶分子的旋转角度，来控制偏振光旋转方向，进而控制偏振光能否透过偏振片，从而实现液晶显示装置的显示状态的改变。为了使液晶分子在初始阶段能更好的沿同一方向整齐的排列并具有最佳的倾角，需要在彩膜基板和阵列基板上涂覆一层取向膜，并对取向膜进行取向处理；目前取向技术主要有摩擦取向法、光控取向法、倾斜蒸镀取向法等，其中应用最广的是摩擦取向法。

传统的调试基板制作工艺为：先在基板上镀一层厚度为800i±200i的氧化铟锡(ITO，Indium Tin Oxides)膜层，然后再涂敷一层厚度为600i±150i的取向膜层。使用调试基板后，会对基板上的取向膜进行清洗，然后再在下次调试时涂敷取向膜，因此调试基板是循环使用的。这样，在取向膜的反复涂敷和清洗过程中，会在基板上产生残留物质，这将影响调试基板的表面平坦度，所以对于传统的调试基板，使用一段时间后，调试基板的表面通常是不平整的，表面具有一定的高度差，因此取向布的毛发不能与调试基板充分接触，从而影响调试基板的调试效果。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的主要目的在于提供一种取向调试基板，增加取向布中毛发与基板的接触面积，提高取向工艺的均一性。

为达到上述目的，本实用新型的技术方案是这样实现的：

本实用新型提供一种取向调试基板，包括：

基板、平行的多个条状凸起、取向膜；

所述平行的多个条状凸起位于所述基板上；

所述取向膜位于所述基板和所述平行的多个条状凸起上。

上述取向调试基板中，所述平行的多个条状凸起为金属材料或感光材料。

上述取向调试基板中，

所述平行的多个条状凸起中，最靠近基板边缘的条状凸起与基板的边缘的距离为15cm±1cm。

上述取向调试基板中，

所述平行的多个条状凸起均匀分布在基板上，且所述平行的多个条状凸起之间的距离为3cm～4cm。

上述取向调试基板中，每个条状凸起的截面形状为梯形、或三角形、或矩形。

上述取向调试基板中，

所述凸起的条状块的厚度为2.0mm±0.2mm；

所述凸起的条状块的截面的最宽处的宽度为3.4mm±0.2mm。

上述取向调试基板中，根据取向布的取向方向确定所述条状凸起与所述基板中短边的夹角以及所述条状凸起的长度。

上述取向调试基板中，所述条状凸起与所述基板中短边的夹角为0～90°。

上述取向调试基板中，利用光刻工艺形成所述平行的多个条状凸起。

本实用新型提供的取向调试基板，包括基板、平行的多个条状凸起、取向膜；所述平行的多个条状凸起位于所述基板上；所述取向膜位于所述基板和所述平行的多个条状凸起上，如此，在进行取向调试时，取向布上的毛发将有效的朝向同一方向，使毛发更加顺直；此外，相对于传统工艺，利用本实用新型提供的取向调试基板，能够增加取向布中毛发与基板的接触面积，提高取向工艺的均一性，使液晶显示装置得到更好的均一性，进而实现更好的显示特性。

附图说明

图1是本实用新型取向调试基板的截面示意图；

图2是本实用新型中基板上形成平行的多个条状凸起后的平面示意图；

附图标记说明

10：基板          11：条状凸起

12：取向膜        13：取向布

H：条状凸起的厚度

M：条状凸起的截面的最宽处的宽度

具体实施方式

下面通过附图及具体实施例对本实用新型再做进一步的详细说明。

本实用新型提供一种取向调试基板，图1是本实用新型取向调试基板的截面示意图，如图1所示，该取向调试基板包括：基板10、平行的多个条状凸起11、取向膜12；其中，所述平行的多个条状凸起11位于基板10上，所述取向膜12位于所述基板10和平行的多个条状凸起11上。

其中，平行的多个条状凸起11可以为金属材料或感光材料；如果平行的多个条状凸起11为金属材料，可以使用铝、钼等金属；如果平行的多个条状凸起11为感光材料，可以使用光刻胶、铟锡金属氧化物(ITO，Indium Tin Oxides)等。