[实用新型]一种用于MO源灌装容器的处理装置有效
申请号: | 201220169664.7 | 申请日: | 2012-04-19 |
公开(公告)号: | CN202543321U | 公开(公告)日: | 2012-11-21 |
发明(设计)人: | 茅嘉原;李敏;王士峰;洪海燕 | 申请(专利权)人: | 苏州普耀光电材料有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 陶海锋;陆金星 |
地址: | 215124 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种用于MO源灌装容器的处理装置,包括容器处理平台、清洗系统和干燥系统;所述容器处理平台上设有至少1对与MO源灌装容器配合的连接头,各对连接头之间连接有MO源灌装容器,各对连接头的另一端通过转换器分别与所述清洗系统和干燥系统连通,分别构成第一连通的密闭系统和第二连通的密闭系统。本实用新型的处理装置可以将清洗、加热、换气、检漏、环境分析操作一体化完成,从而不仅大大减少了操作过程中的污染几率,提高了高纯MO源储存环境,而且缩减了清洗时间、抽烘和气体置换时间,大大提高了处理效率,取得了良好的效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 mo 灌装 容器 处理 装置 | ||
【主权项】:
一种用于MO源灌装容器的处理装置,其特征在于:包括容器处理平台(9)、清洗系统和干燥系统;所述容器处理平台上设有至少1对与MO源灌装容器配合的连接头,各对连接头之间连接有MO源灌装容器(10),各对连接头的另一端通过转换器分别与所述清洗系统和干燥系统连通,分别构成第一连通的密闭系统和第二连通的密闭系统;所述清洗系统包括水泵(7)、水源接收罐(8)、清洗水源(11);所述水泵和水源接收罐连通,水源接收罐通过第一清洗管路(61)与所述各对连接头中的一个连通,各对连接头中的另一个通过第二清洗管路(62)与清洗水源连通,构成所述第一连通的密闭系统;所述第一清洗管路和第二清洗管路上均设有阀门;所述干燥系统包括真空泵(1)、干燥缓冲装置(2)、检测器(3)、检漏仪(4)、气源(5);所述真空泵和干燥缓冲装置连通,干燥缓冲装置通过第一干燥管路(121)与所述各对连接头中的一个连通,各对连接头中的另一个通过第二干燥管路(122)与气源连通,构成所述第二连通的密闭系统;所述第二干燥管路上设有阀门,阀门上设有所述检漏仪。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的