[实用新型]一种用于MO源灌装容器的处理装置有效
申请号: | 201220169664.7 | 申请日: | 2012-04-19 |
公开(公告)号: | CN202543321U | 公开(公告)日: | 2012-11-21 |
发明(设计)人: | 茅嘉原;李敏;王士峰;洪海燕 | 申请(专利权)人: | 苏州普耀光电材料有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 陶海锋;陆金星 |
地址: | 215124 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 mo 灌装 容器 处理 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种用于MO源灌装容器的处理装置。
背景技术
MO源即高纯金属有机化合物,是先进的金属有机化学气相沉积(简称MOCVD)、金属有机分子束外延(简称MOMBE)等技术生长半导体微结构材料的支撑材料。由于MO源产品要求纯度极高,而绝大多数MO源化合物对氧气、水汽极其敏感,遇空气可发生自燃,遇水可发生爆炸,且毒性大,所以MO源的研制是集极端条件下的合成制备、超纯纯化、超纯分析、超纯灌装等于一体的高新技术。
MO源需要储存在一个对洁净度、密封性具有较高要求的惰性气体保护的容器罐(即MO源灌装容器)中。而MO源灌装容器本身需要进行清洗、烘干、以及惰性气体保护。然而,现有技术中还没有专门用于MO源灌装容器的处理装置,一般是一项一项分开进行处理,其操作过程较长,且过程中容易受到污染。因此,开发一种专用于MO源灌装容器的处理装置,以一体化完成清洗、加热、换气、检漏、环境分析操作等,具有积极的现实意义。
发明内容
本实用新型的发明目的是提供一种用于MO源灌装容器的处理装置,以一体化完成清洗、加热、换气、检漏、环境分析操作等。
为达到上述发明目的,本实用新型采用的技术方案是:一种用于MO源灌装容器的处理装置,包括容器处理平台、清洗系统和干燥系统;
所述容器处理平台上设有至少1对与MO源灌装容器配合的连接头,各对连接头之间连接有MO源灌装容器,各对连接头的另一端通过转换器分别与所述清洗系统和干燥系统连通,分别构成第一连通的密闭系统和第二连通的密闭系统;
所述清洗系统包括水泵、水源接收罐、清洗水源;所述水泵和水源接收罐连通,水源接收罐通过第一清洗管路与所述各对连接头中的一个连通,各对连接头中的另一个通过第二清洗管路与清洗水源连通,构成所述第一连通的密闭系统;
所述第一清洗管路和第二清洗管路上均设有阀门;
所述干燥系统包括真空泵、干燥缓冲装置、检测器、检漏仪、气源;所述真空泵和干燥缓冲装置连通,干燥缓冲装置通过第一干燥管路与所述各对连接头中的一个连通,各对连接头中的另一个通过第二干燥管路与气源连通,构成所述第二连通的密闭系统;
所述第二干燥管路上设有阀门,阀门上设有所述检漏仪。
上文中,所述容器处理平台上设有至少1对与MO源灌装容器配合的连接头,连接头的作用是将MO源灌装容器与清洗系统、干燥系统连接,形成连通的密闭系统;例如:1对连接头包括2个连接头,2个连接头之间连接待处理的MO源灌装容器,连接头的另一端与清洗系统、干燥系统连接。
所述各对连接头之间连接有MO源灌装容器,优选的,各对连接头之间串联多个MO源灌装容器,以提高处理效率。
所述第一连通的密闭系统和第二连通的密闭系统可以通过转换器进行切换,即:当第一连通的密闭系统工作时,第二连通的密闭系统关闭,反之亦然。
上述技术方案中,所述MO源灌装容器通过管路与各对连接头连接,且管路上设有阀门。
上述技术方案中,所述转换器为三通阀。
上述技术方案中,所述水泵和水源接收罐之间设有阀门。
上述技术方案中,所述真空泵和干燥缓冲装置之间设有阀门。
由于上述技术方案运用,本实用新型与现有技术相比具有下列优点:
1.本实用新型设计得到了一种专用于MO源灌装容器的处理装置,可以将清洗、干燥、净化、检漏、环境分析操作一体化完成,从而不仅大大减少了操作过程中的污染几率,提高了高纯MO源储存环境,而且缩减了清洗时间、抽烘和气体置换时间,大大提高了处理效率,取得了良好的效果。
2. 本实用新型中使用的连接头和管路均可以根据实际情况进行调整,因而具有良好的适用性,同时其结构简单,易于操作,适于推广应用。
附图说明
图1是本实用新型实施例一的结构示意图。
其中:1、真空泵;2、干燥缓冲装置;3、检测器;4、检漏仪;5、气源;61、第一清洗管路;62、第二清洗管路;7、水泵;8、水源接收罐;9、容器处理平台;10、MO源灌装容器;11、清洗水源;121、第一干燥管路;122、第二干燥管路。
具体实施方式
下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述:
实施例一
参见图1所示,一种用于MO源灌装容器的处理装置,包括容器处理平台9、清洗系统和干燥系统;
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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