[实用新型]溅射设备有效
| 申请号： | 201220074337.3 | 申请日： | 2012-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN202482422U | 公开（公告）日： | 2012-10-10 |
| 发明（设计）人： | 黄常刚;魏崇喜 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;赵爱军 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种溅射设备，包括成膜腔体、载片结构、传输结构以及用于完成溅射的溅射装置，所述载片结构包括相对设置的第一承载板和第二承载板，所述第一承载板和所述第二承载板之间设置有磁屏蔽板；所述载片结构装设于传输结构上，所述传输结构用于传输所述载片结构；所述溅射装置包括第一溅射装置和第二溅射装置，第一溅射装置设置于成膜腔体的第一内壁上，所述第二溅射装置设置于与第一内壁相对的第二内壁上。本实用新型提供的溅射设备，可以一次传输两片基板进行溅射镀膜，由此提高了溅射镀膜产线的生产效率，降低了耗能。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 设备 | ||
【主权项】：
一种溅射设备，包括成膜腔体、载片结构、传输结构、用于完成溅射的溅射装置、真空系统和气氛控制系统，其特征在于，所述载片结构包括相对设置的第一承载板和第二承载板，所述第一承载板和所述第二承载板之间设置有磁屏蔽板，所述载片结构装设于传输结构上，所述传输结构用于传输所述载片结构，所述溅射装置包括第一溅射装置和第二溅射装置，第一溅射装置设置于成膜腔体的第一内壁上，所述第二溅射装置设置于与第一内壁相对的第二内壁上，所述第一溅射装置与第一承载板相对，所述第二溅射装置与第二承载板相对。
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