[实用新型]多工艺腔双面镀膜PECVD装置

摘要

本实用新型公开了一种多工艺腔双面镀膜PECVD装置，用于对太阳能电池片表面进行镀膜处理，具有镀膜腔，所述镀膜腔至少包括连续排列的第一工艺腔、第二工艺腔以及尾端工艺腔，第一工艺腔和尾端工艺腔内分别设有镀膜方向相反的等离子发生器，第二工艺腔内近第一工艺腔一侧设有与第一工艺腔镀膜方向相同的等离子发生器，第二工艺腔内近尾端工艺腔一侧设有与尾端工艺腔镀膜方向相同的等离子发生器。本实用新型采用工艺腔模块化组合的方式，实现对太阳能电池片多层双面一次性连续沉积镀膜，避免了不同工艺之间的交叉污染，有利于镀膜技术的量产化作业，可根据制作工艺需要灵活增加或减少工艺腔的数量。

主权项

一种多工艺腔双面镀膜PECVD装置，用于对太阳能电池片表面进行镀膜处理，具有镀膜腔，所述镀膜腔至少包括连续排列的第一工艺腔(1)、第二工艺腔(2)以及尾端工艺腔(3)，第一工艺腔(1)前端设有上料腔(4)，尾端工艺腔(3)后端设有下料腔(5)，其特征是：第一工艺腔(1)和尾端工艺腔(3)内分别设有镀膜方向相反的等离子发生器(6)，第二工艺腔(2)内近第一工艺腔(1)一侧设有与第一工艺腔(1)镀膜方向相同的等离子发生器(6)，第二工艺腔(2)内近尾端工艺腔(3)一侧设有与尾端工艺腔(3)镀膜方向相同的等离子发生器(6)。