[实用新型]多工艺腔双面镀膜PECVD装置

权利要求书

1.一种多工艺腔双面镀膜PECVD装置，用于对太阳能电池片表面进行镀膜处理，具有镀膜腔，所述镀膜腔至少包括连续排列的第一工艺腔(1)、第二工艺腔(2)以及尾端工艺腔(3)，第一工艺腔(1)前端设有上料腔(4)，尾端工艺腔(3)后端设有下料腔(5)，其特征是：第一工艺腔(1)和尾端工艺腔(3)内分别设有镀膜方向相反的等离子发生器(6)，第二工艺腔(2)内近第一工艺腔(1)一侧设有与第一工艺腔(1)镀膜方向相同的等离子发生器(6)，第二工艺腔(2)内近尾端工艺腔(3)一侧设有与尾端工艺腔(3)镀膜方向相同的等离子发生器(6)。

2.根据权利要求1所述的多工艺腔双面镀膜PECVD装置，其特征是：还包括可调节所述镀膜腔之间气压的气压平衡装置(7)，所述气压平衡装置(7)具有气体加热装置(8)。

3.根据权利要求1所述的多工艺腔双面镀膜PECVD装置，其特征是：所述的上料腔(4)内设有红外线加热装置(9)，所述的第一工艺腔(1)内位于等离子发生器(6)前端具有对电池片表面进行加热的加热区(10)，尾端工艺腔(3)内位于等离子发生器(6)后端具有冷却区(11)。

4.根据权利要求1所述的多工艺腔双面镀膜PECVD装置，其特征是：所述的等离子发生器(6)相对面的位置设有工艺腔加热器(12)。