[发明专利]一种计算机硬盘的化学机械抛光液有效
| 申请号： | 201210587505.3 | 申请日： | 2012-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN103897604A | 公开（公告）日： | 2014-07-02 |
| 发明（设计）人： | 宋晗;王良咏;刘卫丽;宋志棠 | 申请（专利权）人： | 上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 许亦琳;余明伟 |
| 地址： | 201506 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及计算机领域，具体涉及一种可有效应用于计算机NiP硬盘的计算机硬盘化学机械抛光液。计算机硬盘化学机械抛光液，为含有氧化剂、研磨粒子、盐类添加剂以及pH调节剂的水溶液；所述盐类添加剂通式为X-R-Y，其中X为阳离子，Y为阴离子，R为直链烃基或其衍生物。通过本发明提供的化学机械抛光浆液，硬盘的抛光速率达到了90nm/min,表面粗糙度较低，硬盘的表面质量和加工效率得到了有效的提高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 计算机 硬盘 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
一种计算机硬盘化学机械抛光液，为含有氧化剂、研磨粒子、盐类添加剂以及pH调节剂的水溶液；所述盐类添加剂通式为X‑R‑Y，其中X为阳离子，Y为阴离子，R为直链烃基或其衍生物。
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