[发明专利]一种计算机硬盘的化学机械抛光液

权利要求书

1.一种计算机硬盘化学机械抛光液，为含有氧化剂、研磨粒子、盐类添加剂以及pH调节剂的水溶液；所述盐类添加剂通式为X-R-Y，其中X为阳离子，Y为阴离子，R为直链烃基或其衍生物。

2.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，X选自Ca²⁺、Mg²⁺、Zn²⁺、K⁺、Na⁺、Li⁺、-NH₂⁺或Al³⁺，Y选自PO₄^3-、NO₃^-、Cl^-、Br^-、I^-、COOH^-或SO₄^2-，R为-[CH₂]_n-、-[CH₂]_n-的衍生物、-[CH=CH]_n-或-[CH=CH]_n-的衍生物。

3.如权利要求1或2任一权利要求所述的抛光液，其特征在于，所述氧化剂选自铁氰化钾、双氧水、过硫酸铵、过硫酸钾或过硫酸钠。

4.如权利要求1或2任一权利要求所述的抛光液，其特征在于，所述研磨粒子为氧化硅粒子。

5.如权利要求4所述的抛光液，其特征在于，所述氧化硅粒子的半径为10～80nm。

6.如权利要求1或2任一权利要求所述的抛光液，其特征在于，所述pH调节剂为HCl或KOH。

7.如权利要求1或2任一权利要求所述的抛光液，其特征在于，所述抛光液中，氧化剂的浓度为0.1～20wt%，研磨粒子的浓度为0.2～30wt%，盐类添加剂的浓度为0.5～1.5wt%，所述抛光液的pH值为1～9。

8.如权利要求7所述的抛光液，其特征在于，所述抛光液中，氧化剂的浓度为2～10wt%，研磨粒子的浓度为1～10wt%，盐类添加剂的浓度为1wt%，所述抛光液的pH值为1～5。

9.权利要求1-8任一权利要求所述计算机硬盘化学机械抛光液的应用，为用于NiP硬盘的抛光。