[发明专利]气相色谱柱及其形成方法、以及气相色谱仪无效
| 申请号： | 201210580103.0 | 申请日： | 2012-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN103063788A | 公开（公告）日： | 2013-04-24 |
| 发明（设计）人： | 王伟军;李铭;储佳 | 申请（专利权）人： | 上海集成电路研发中心有限公司 |
| 主分类号： | G01N30/60 | 分类号： | G01N30/60 |
| 代理公司： | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人： | 吴世华;林彦之 |
| 地址： | 201210 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种气相色谱柱及其形成方法、以及气相色谱仪。该方法包括：在衬底的一表面形成若干条第一沟槽，并沿着所述若干条第一沟槽在所述衬底中形成若干条第二沟槽，若干条所述第二沟槽连通形成曲形结构；沿着所述第二沟槽对部分所述衬底进行刻蚀，形成一曲形结构微通道，对所述衬底进行通孔刻蚀，然后在衬底另一表面同样形成另一曲形结构微通道，形成整体为曲形结构微通道，以作为气相色谱柱。本发明通过形成在衬底两个表面的曲形结构微通道，从而实现了器件的小型化以及微型化。 | ||
| 搜索关键词： | 色谱 及其 形成 方法 以及 色谱仪 | ||
【主权项】：
一种气相色谱柱的形成方法，其特征在于，包括：在衬底的一表面形成若干条第一沟槽，并沿着所述若干条第一沟槽在所述衬底中形成若干条第二沟槽，若干条所述第一沟槽连通形成曲形结构，若干条所述第二沟槽连通形成曲形结构；沿着所述第二沟槽对部分所述衬底进行刻蚀，形成一曲形结构微通道，然后形成贯穿衬底的通孔，采用形成所述一曲形结构微通道同样的方式，在衬底另一表面形成另一曲形结构微通道，并利用所述通孔与所述一曲形结构微通道连通，形成整体的微通道结构。
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