[发明专利]一种用于触摸屏的ITO膜及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201210565097.1 申请日: 2012-12-24
公开(公告)号: CN103014644A 公开(公告)日: 2013-04-03
发明(设计)人: 沈国阳 申请(专利权)人: 南昌欧菲光科技有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/08
代理公司: 南昌新天下专利商标代理有限公司 36115 代理人: 施秀瑾
地址: 330000 江西*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 发明涉及一种用于触摸屏的ITO膜及其制备方法,属于电子屏幕的技术领域。该方法包括在磁控溅射条件下,在磁控靶上施加电源使磁控靶材上的靶物质溅射并沉积到透明基体上,以在基体上形成膜层,所述膜层包括自透明基体上表面依次向上排列的底层、中间层和第一面层;形成如上所述膜层均在氩气、氮气和/或氧气气氛下进行。本发明率先采用真空磁控溅射法制备柔性ITO薄膜,通过磁控溅射将ITO薄膜沉积在柔性基体上,再通过贴合等技术至基体上。由此方法制备的ITO薄膜不仅附着力好,性能优异,而且有利于工业化连续生产,大大提高了生产效率,为工业化生产的首选。
搜索关键词: 一种 用于 触摸屏 ito 及其 制备 方法
【主权项】:
一种用于触摸屏的ITO膜,该膜包括透明基体(1)和镀覆在所述透明基体上的膜层,其特征在于:所述膜层包括自透明基体(1)上表面依次向上排列的底层(2)、中间层(3)和第一面层(4)。
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