[发明专利]智能型缺陷良率总览接口系统与方法有效

专利信息
申请号: 201210558323.3 申请日: 2012-12-19
公开(公告)号: CN103186657A 公开(公告)日: 2013-07-03
发明(设计)人: 吕一云 申请(专利权)人: 敖翔科技股份有限公司
主分类号: G06F17/30 分类号: G06F17/30
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 赵根喜;吕俊清
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开了一种智能型缺陷良率总览接口系统与方法,系统设计提出一个网页服务器,服务器用以启动包涵多个功能项目的网页接口,这些功能项目提供用来在接口上点选时启动对应的功能。通过网页接口上的使用者接口,使用者可选择一或多个功能来浏览多种有关晶圆良率的内容,其中系统使用存储器存储电脑可执行指令,可选择性执行对应的功能。当晶圆影像经接口输入系统时,系统可执行一缺陷坐标转换、仪表板总览缺陷过滤、缺陷取样、缺陷产出诊断、良率预测、图形诊断、数据管理与系统管理。通过此接口系统,还提供于晶圆工艺中取得数据的一种全晶片的总览方法。本发明可以通过数据探勘而改善半导体工艺良率。
搜索关键词: 智能型 缺陷 总览 接口 系统 方法
【主权项】:
一种应用于晶圆工艺中的智能型缺陷良率总览接口系统,其特征在于所述的系统包括:一网页服务器,开始一包括多个功能项目的网页接口,用以提供经点选启动一或多个对应的网页功能;一存储器,记载电脑可执行指令,以选择性地执行经点选的该对应网页功能,该多个网页功能包括:缺陷布局坐标转换手段,以取得缺陷布局坐标;仪表板总览手段,提供晶圆批种类的预览信息;缺陷筛选手段,用以根据该晶圆工艺早期的布局图形与缺陷大小执行缺陷筛选;缺陷取样手段,用以根据该布局图形、设备、光罩与设计弱点执行缺陷取样;缺陷良率诊断手段,用以识别随机粒子、系统性缺陷与缺陷分类;设计良率改善手段,用以根据一系统性缺陷图形库、可制造化设计、布局基准图与一高失败频率的缺陷图形库改善晶圆良率;良率预测手段,用以判断晶片制造的成本、估计良好晶粒交付数量,与确定新的设计;图形诊断手段,以在一缺陷分类模式、一布局图形群组模式、一热点模式或一多轮廓重迭模式执行图形轮廓测量;数据管理手段,用以产生报告与执行数据探勘;系统管理手段,用以管理该网页服务器的运作,该网页服务器包括系统设定与使用者管理。
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