[发明专利]高透光节能防爆膜的制备工艺及所得防爆膜

摘要

本发明公开一种高透光节能防爆膜的制备工艺及所得防爆膜，制备一聚酯薄膜，厚度为15~70μm；在热稳定性聚酯薄膜上磁控溅射沉积作为防氧化保护的第一金属铟层，第一金属铟层厚度为2nm到15nm；在第一金属铟层另一表面磁控溅射沉积一隔热层，此隔热层金属银层或金属铝层，所述隔热层厚度为10~50nm；然后在隔热层另一表面磁控溅射沉积第二金属铟层，所述第二金属铟层厚度为5~20nm。本发明防爆膜既有利于将反射和阻隔太阳光线中的红外线，隔热效果显著，又能更好的保护磁控溅射金属层，防止金属氧化，提高和保证了产品的性能和使用寿命，从而可适用于要求更高的场所；本发明同时提供上述高透高隔热节能防爆膜的制备工艺。

主权项

一种高透光节能防爆膜的制备工艺，其特征在于：包括以下步骤：步骤一、制备一聚酯薄膜，厚度为15~70μm，所述聚酯薄膜为热稳定性聚酯薄膜；步骤二、在步骤一的热稳定性聚酯薄膜上磁控溅射沉积作为防氧化保护的第一金属铟层，工艺条件为：采用纯度为99.99%的铟（In）的靶材，溅射气体为99.999%的高纯氩气，腔体内部的真空度为6.1×10‑4Pa，工作压力设为0.7 Pa，靶材距离固定在75 mm，氩气的流量为22sccm，铟（In）的溅射功率是40 W，溅射速率分别4.0nm/min，第一金属铟层厚度为2nm~15nm；步骤三、在第一金属铟层另一表面磁控溅射沉积一隔热层，此隔热层金属银层或金属铝层；工艺条件为：纯度为99.99%银的靶材，溅射气体为99.999%高纯氩气，腔体内部的真空度为6.1×10‑4Pa，工作压力设为0.7 Pa，靶材距离固定在75mm，氩气的流量为22sccm，银靶材溅射功率是40W，溅射速率为 6.4 nm/min，所述隔热层厚度为10~50nm； 步骤四、然后在步骤三的隔热层另一表面磁控溅射沉积第二金属铟层，工艺条件为：铟靶材纯度为99.99%，溅射气体为99.999%的高纯氩气，腔体内部的真空度为6. 1×10‑4Pa，工作压力设为0.7 Pa，靶材距离固定在75mm，氩气的流量为22sccm，铟的溅射功率都是40 W，溅射速率分别4.0nm/min，所述第二金属铟层厚度为5~20nm。