[发明专利]高透光节能防爆膜的制备工艺及所得防爆膜有效

专利信息
申请号: 201210549980.1 申请日: 2012-12-18
公开(公告)号: CN103057211A 公开(公告)日: 2013-04-24
发明(设计)人: 金闯;杨晓明 申请(专利权)人: 苏州斯迪克新材料科技股份有限公司
主分类号: B32B15/09 分类号: B32B15/09;C23C14/35;C23C14/16;C23C14/20
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 马明渡
地址: 215400 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 透光 节能 防爆膜 制备 工艺 所得
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种高透光节能防爆膜的制备工艺及所得防爆膜,属于胶粘材料技术领域。

背景技术

磁控溅射镀膜玻璃自上世纪 80 年代进入国内建 筑玻璃市场以来,已经有 30多年了。国内引进镀膜玻璃生产线40多条,自主设计、制造小型连续生产线多条。有很多科研院所和镀膜玻璃设备制造厂家,以及镀膜玻璃生产一线的技术人员,都从不同层次、不同角度、不同需求,对镀膜玻璃生产的工艺、技术、控制等等各方面不断地进行研究和探索。

磁控溅射的工艺原理在充入少量工艺气体的真空室内,当极间电压很小时,只有少量离子和电子存在,电流密度在10~15A/cm2数量级,当阴极(靶材)和阳极间电压增加时,带电离子在电场的作用下加速运动,能量增加,与电极或中性气体原子相碰撞,产生更多的带电离子,直至电流达到10~6A/cm2数量级;当电压再增加时,则会产 生负阻效应,即雪崩现象。此时离子轰击阴极,击出阴极原子和二次电子,二次电子与中性原子碰撞,产生更多离子,此离子再轰击阴极,又产生二次电子,周而复始。当电流密度达到 0.01A/cm数量级左右时,电 流将随电压的增加而增加,形成高密度等离子体的异 常辉光放电,高能量的离子轰击阴极(靶材)产生溅射 现象。溅射出来的高能量靶材粒子沉积到阳极(玻璃毛坯)上,从而达到镀膜的目的。

在磁场的作用下,电子在向阳极运动的过程中,作螺旋运动,束缚和延长了电子的运动轨迹,从而提高了电子对工艺气体的电离几率,有效地利用了电子 的能量,因而在形成高密度等离子体的异常辉光放电中,正离子对靶材轰击所引起的靶材溅射更加有效。同时受正交电磁场的束缚,电子只有在其能量消耗殆 尽时才能落玻璃毛坯上,从而使磁控溅射具有高速、低温的优点。

目前建筑物和一般场所使用的玻璃以及汽车车身上使用的玻璃一般都是单纯的玻璃,单纯的玻璃虽然具有透光度好,便于观察外界情况和便于驾驶员观察道路交通情况以及车内乘坐人员观察车外的情况,一方面,但玻璃外面的太阳光和其它光线往往会影响玻璃内面人员和汽车驾驶员的眼睛和视觉;另一方面,玻璃外面的阳光会透过玻璃晒热玻璃内面和汽车内部,使玻璃内面和汽车内部温度增高,更为严重的是当发生意外而导致玻璃破碎时,破碎的玻璃飞散会伤害周边人员,因此,玻璃后面和汽车内往往安装布帘,以遮挡阳光和隔热,目前则采用粘贴塑料薄膜的方法,但是在隔热性能上本领域技术人员未能给予足够的重视。 因此,如何提高隔热效率,又能保证很高的可见光的透过率,以达到既节能又高透明是本领域技术人员努力的方向。同时,在柔性基材(塑料薄膜)磁控溅射生产高透明高隔热的防爆膜也是本领域技术人员努力的方向

发明内容

本发明目的是提供一种高透光节能防爆膜的制备工艺及所得防爆膜,该防爆膜既有利于将反射和阻隔太阳光线中的红外线,隔热效果显著,又能更好的保护磁控溅射金属层,防止金属氧化,提高和保证了产品的性能和使用寿命,从而可适用于要求更高的场所。

为达到上述目的,本发明采用的第一种技术方案是:一种高透光节能防爆膜的制备工艺,包括以下步骤:

步骤一、制备一聚酯薄膜,厚度为15~70μm,所述聚酯薄膜为热稳定性聚酯薄膜;

步骤二、在步骤一的热稳定性聚酯薄膜上磁控溅射沉积作为防氧化保护的第一金属铟层,工艺条件为:采用纯度为99.99%的铟(In)的靶材,溅射气体为99.999%的高纯氩气,腔体内部的真空度为6.1×10-4Pa,工作压力设为0.7 Pa,靶材距离固定在75 mm,氩气的流量为22sccm,铟(In)的溅射功率是40 W,溅射速率分别4.0nm/min,第一金属铟层厚度为2 nm到15nm;

步骤三、在第一金属铟层另一表面磁控溅射沉积一隔热层,此隔热层金属银层或金属铝层;工艺条件为:纯度为99.99%银的靶材,溅射气体为99.999%高纯氩气,腔体内部的真空度为6.1×10-4Pa,工作压力设为0.7 Pa,靶材距离固定在75mm,氩气的流量为22sccm,银靶材溅射功率是40W,溅射速率为6.4 nm/min,所述隔热层厚度为10~50nm; 

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