[发明专利]高透光节能防爆膜的制备工艺及所得防爆膜

权利要求书

1.一种高透光节能防爆膜的制备工艺，其特征在于：包括以下步骤：

步骤一、制备一聚酯薄膜，厚度为15~70μm，所述聚酯薄膜为热稳定性聚酯薄膜；

步骤二、在步骤一的热稳定性聚酯薄膜上磁控溅射沉积作为防氧化保护的第一金属铟层，工艺条件为：采用纯度为99.99%的铟（In）的靶材，溅射气体为99.999%的高纯氩气，腔体内部的真空度为6.1×10^-4Pa，工作压力设为0.7 Pa，靶材距离固定在75 mm，氩气的流量为22sccm，铟（In）的溅射功率是40 W，溅射速率分别4.0nm/min，第一金属铟层厚度为2nm~15nm；

步骤三、在第一金属铟层另一表面磁控溅射沉积一隔热层，此隔热层金属银层或金属铝层；工艺条件为：纯度为99.99%银的靶材，溅射气体为99.999%高纯氩气，腔体内部的真空度为6.1×10^-4Pa，工作压力设为0.7 Pa，靶材距离固定在75mm，氩气的流量为22sccm，银靶材溅射功率是40W，溅射速率为 6.4 nm/min，所述隔热层厚度为10~50nm； 

步骤四、然后在步骤三的隔热层另一表面磁控溅射沉积第二金属铟层，工艺条件为：铟靶材纯度为99.99%，溅射气体为99.999%的高纯氩气，腔体内部的真空度为6. 1×10^-4Pa，工作压力设为0.7 Pa，靶材距离固定在75mm，氩气的流量为22sccm，铟的溅射功率都是40 W，溅射速率分别4.0nm/min，所述第二金属铟层厚度为5~20nm。

2.根据权利要求1所述的制备工艺，其特征在于：所述步骤一的热稳定性聚酯薄膜在150~160℃下进行预热收缩处理。

3.根据权利要求2所述的制备工艺，其特征在于：其特征在于：所述步骤一和步骤二之间在所述热稳定性聚酯薄膜上预涂丙烯酸乳液层，此其厚度为0.5~5.0μm。

4.根据权利要求1所述的制备工艺，其特征在于：在所述步骤四中第二金属铟层溅射前，先对铟靶材进行5min的预溅射，以除去靶表面残留的氧化物和污染物。

5.根据权利要求1所述的制备工艺，其特征在于：其特征在于：所述隔热层为金属铝层，此金属铝层厚度为20~50nm。

6.一种根据权利要求1所述高透光节能防爆膜的制备工艺所得的防爆膜，其特征在于：包括一热稳定性聚酯薄膜层（1），此热稳定性聚酯薄膜层（1）一表面磁控溅射有第一金属铟层（2），此第一金属铟层（2）另一表面磁控溅射有作为隔热层的金属银层（31）或金属铝层（32），此金属银层（31）或金属铝层（32）另一表面磁控溅射有第二金属铟层（4）；所述第一金属铟层厚度为2~15nm，所述金属银层或金属铝层厚度为10~50nm，所述第二金属铟层5~20nm。

7.根据权利要求6所述的高透高隔热节能防爆膜，其特征在于：所述热稳定性聚酯薄膜层磁控溅射前在150~160℃下进行预热收缩处理。

8.根据权利要求6所述的高透高隔热节能防爆膜，其特征在于：所述热稳定性聚酯薄膜层和第一金属铟层之间涂覆有丙烯酸乳液层。

9.根据权利要求6所述的高透高隔热节能防爆膜，其特征在于：所述热稳定性聚酯薄膜层厚度为15~70μm。