[发明专利]一种蚀刻剂及其制备和应用有效

专利信息
申请号: 201210540299.0 申请日: 2012-12-13
公开(公告)号: CN103013523A 公开(公告)日: 2013-04-03
发明(设计)人: 萨莉·安·亨利;黄金涛;马嘉;吴仪;苏宇佳 申请(专利权)人: 北京七星华创电子股份有限公司
主分类号: C09K13/04 分类号: C09K13/04;H01L21/02
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 王朋飞;张庆敏
地址: 100015 北京*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种蚀刻剂,其是由硫酸和过硫酸铵组成,过滤酸铵的质量浓度为1-25%。硫酸为98%质量浓度的硫酸。本发明还提出制备该蚀刻剂的方法,其是将过硫酸铵加入100-200℃的硫酸中。本发明用过硫酸铵替代氧化剂过氧化氢。过硫酸铵是一种粉末,使操作更简单;本发明提出的蚀刻剂处理晶片或光掩模,因为硫酸是与有机物反应的副产物,而不是水,所以多次清洗后蚀刻剂也不会被稀释,节约了生产成本。
搜索关键词: 一种 蚀刻 及其 制备 应用
【主权项】:
一种蚀刻剂,其特征在于,所述蚀刻剂由硫酸和过硫酸铵组成,过硫酸铵的质量浓度为1‑25%。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京七星华创电子股份有限公司,未经北京七星华创电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210540299.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top