[发明专利]一种金属纳米结构的制备方法有效
| 申请号： | 201210539491.8 | 申请日： | 2012-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN103863999A | 公开（公告）日： | 2014-06-18 |
| 发明（设计）人： | 李俊杰;孙旺宁;顾长志;金爱子;夏晓翔;杨海方;全宝刚;李无暇 | 申请（专利权）人： | 中国科学院物理研究所 |
| 主分类号： | B81B1/00 | 分类号： | B81B1/00;B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人： | 王勇;王博 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种金属纳米结构的制备方法，包括：在衬底上形成第一光刻胶层，并利用纳米压印法在所述第一光刻胶层中形成纳米结构，其中所述第一光刻胶层具有第一玻璃化温度；在所述具有纳米图案的第一光刻胶层上沉积金属材料层；在转移衬底上形成第二光刻胶层，所述第二光刻胶层具有高于第一玻璃化温度的第二玻璃化温度；将所述转移衬底上的所述第二光刻胶层与所述金属材料层粘结，并使所述第二光刻胶层固化；加热到所述第一玻璃化温度与所述第二玻璃化温度之间的温度，使所述第一光刻胶层进入粘流态，同时所述第二光刻胶层处于玻璃态；将所述金属材料层与所述第一光刻胶层机械分离，在金属材料层表面得到纳米结构。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 金属 纳米 结构 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种金属纳米结构的制备方法，包括：1）在衬底上形成第一光刻胶层，并利用模板纳米压印法在所述第一光刻胶层中形成纳米图案，其中所述第一光刻胶层具有第一玻璃化温度；2）在所述具有纳米图案的第一光刻胶层上沉积金属材料层；3）在转移衬底上形成第二光刻胶层，所述第二光刻胶层具有高于第一玻璃化温度的第二玻璃化温度；4）将所述转移衬底上的所述第二光刻胶层与所述金属材料层粘结，并使所述第二光刻胶层固化；5）将步骤4）得到的结构加热到所述第一玻璃化温度与所述第二玻璃化温度之间的温度；6）将所述金属材料层与所述第一光刻胶层机械分离，在金属材料层表面得到纳米结构。
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