[发明专利]一种化学机械抛光液的应用在审
| 申请号： | 201210528325.8 | 申请日： | 2012-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN103865401A | 公开（公告）日： | 2014-06-18 |
| 发明（设计）人： | 荆建芬;张建;蔡鑫元 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/02;H01L21/306 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明揭示了一种化学机械抛光液在硅基材料抛光中的应用，该抛光液至少含有研磨颗粒和氧化剂。该抛光液可用于抛光硅基材料如多晶硅和单晶硅，抛光后的硅基晶片表面粗糙度低，亲水性好，有利于降低表面缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 应用 | ||
【主权项】：
一种抛光液在硅基材抛光中降低水在硅晶片表面接触角中的应用，其特征在于：所述抛光液包含研磨颗粒以及氧化剂。
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