[发明专利]铝钛合金溅镀靶材及其制作方法无效
| 申请号： | 201210514750.1 | 申请日： | 2012-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN103849839A | 公开（公告）日： | 2014-06-11 |
| 发明（设计）人： | 蔡宗闵;刘畊甫;李宗翰;林隹玉;黄资涵 | 申请（专利权）人： | 光洋应用材料科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/14 |
| 代理公司： | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人： | 程伟 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种铝钛合金溅镀靶材及其制作方法。为了克服现有技术的铝钛合金溅镀靶材难以溅镀形成组成均匀的铝钛合金薄膜的问题，本发明提供一种析出相分布均匀的铝钛合金溅镀靶材，其能用以溅镀形成具有良好薄膜稳定性与组成均匀的铝钛合金薄膜。此外，本发明也提供一种铝钛合金溅镀靶材的制作方法，其将铝钛合金熔汤注入内模最大冷却面的面积/总容积大于0.1cm2/cm3的模具中，并同时冷却该模具，用来有效抑制铝钛合金溅镀靶材中析出相的偏聚现象，获得析出相面积小且分布均匀的铝钛合金溅镀靶材。 | ||
| 搜索关键词： | 钛合金 溅镀靶材 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
一种铝钛合金溅镀靶材，其中所述铝钛合金溅镀靶材主要由铝及钛所组成，该铝钛合金溅镀靶材包含多个相同尺寸的预定区域，每一预定区域分别由基底相及析出相所组成，其中以整体铝钛合金溅镀靶材中钛的含量为X重量百分比，当0.1<X≤1.0时，该析出相相对于基底相的平均面积比介于X‑0.1%至X+0.1%之间，且该析出相相对于基底相的面积比标准差低于0.3X%。
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