[发明专利]泛彩光学镀膜表面及其制造方法

摘要

本发明公开了一种泛彩光学镀膜表面及其制造方法。本发明采用的泛彩光学镀膜表面制造方法包括如下步骤：1）清洁基材表面；2）底漆喷涂，厚度控制在23～27微米；3）镀膜，膜层依次采用6～10纳米的SiO2，12～14纳米的TiO2，3～7纳米的SiO2，18～22纳米的TiO2，23.5～27.5纳米的SiO2五层，镀SiO2时沉积速率控制在0.4～0.6纳米/秒，镀TiO2沉积速率控制在0.15～0.3纳米/秒；4）中漆喷涂，厚度控制在5～9um；5）面漆喷涂，厚度控制在16～20um。本发明的有益效果在于通过对不透明素材进行光学镀膜,利于光学镀膜层的反射及折射,使喷涂后的产品表面出现泛彩效果,增加了素材表面的质感,及颜色绚丽的效果,丰富了素材件的处理方法。

主权项

一种泛彩光学镀膜表面制造方法，包括如下步骤：1）清洁基材表面；2）底漆喷涂，厚度控制在23～27微米；3）镀膜，膜层依次采用6～10纳米 的SiO₂，12～14纳米 的TiO₂，3～7纳米的SiO₂，18～22纳米的TiO₂，23.5～27.5纳米的SiO₂五层，镀SiO₂时沉积速率控制在 0.4～0.6纳米/秒，镀TiO₂沉积速率控制在0.15～0.3纳米/秒；4）中漆喷涂，厚度控制在5～9 微米；5）面漆喷涂，厚度控制在16～20微米。