[发明专利]泛彩光学镀膜表面及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种镀膜技术，具体地讲，涉及一种泛彩光学镀膜表面及其制造方法。

背景技术

现有技术中的普通光学镀膜表面为透明,无光圈 ,表面效果单一, 没有合理的利用光学镀膜的折射及反射, 达到表面泛彩的效果。

发明内容

本发明的目的在于为克服现有技术的不足及存在的问题，提出一种新型泛彩光学镀膜表面，喷涂后表面通过光学镀膜层的折射及反射,使喷涂层反射出七彩光圈,如水纹一样绚丽多彩,增加了喷涂层的质感,丰富了人们的视觉感受。

本发明采用的泛彩光学镀膜表面制造方法包括如下步骤：

　　　1）清洁基材表面； 

　　　2）底漆喷涂，厚度控制在23～27微米；

　　　3）镀膜，膜层依次采用6～10纳米 的SiO2，12～14纳米 的TiO2，3～7纳米的SiO2，18～22纳米的TiO2，23.5～27.5纳米的SiO2五层，镀SiO2时沉积速率控制在 0.4～0.6纳米/秒，镀TiO2沉积速率控制在0.15～0.3纳米/秒；

　　　4）中漆喷涂，厚度控制在5～9 微米；

　　　5）面漆喷涂，厚度控制在16～20微米。

一般而言，针对此工艺的基材要求，可选择PC（聚碳酸酯）材料、ABS塑料、GF（玻璃纤维）材料及其他表面易于涂料附着的材料，按照选用基材的不同，一般在每一步镀膜后需要测试产品的牢固性，需要在上述步骤（2）、（3）、（4）、（5）中的任意一步或几步完成后对产品进行附着力测试。

为了进一步测试产品的质量，一般在产品完成后，也就是步骤（5）完成后对产品进行耐水煮性测试。

本发明还提供了一种泛彩光学镀膜表面，包括底漆、镀膜层、中漆及面漆，其特征在于：底漆厚度为23～27微米，中漆厚度为5～9 微米，面漆厚度为16～20微米，镀膜层依次包括厚度为6～10纳米 的SiO2，12～14纳米 的TiO2，3～7纳米的SiO2，18～22纳米的TiO2，23.5～27.5纳米的SiO2五层。

本发明的有益效果在于通过对不透明素材进行光学镀膜,利于光学镀膜层的反射及折射,使喷涂后的产品表面出现泛彩效果,增加了素材表面的质感,及颜色绚丽的效果,丰富了素材件的处理方法。

具体实施方式

实施例1

　　　本实施例以手机后壳（ABS材质）为基材，采用的泛彩光学镀膜表面制造方法包括如下步骤：

　　　1）清洁基材表面；

　　　2）底漆喷涂，厚度控制在25微米；

　　　3）镀膜，膜层依次采用8纳米 的SiO2，12纳米 的TiO2，6纳米的SiO2，21纳米的TiO2，24纳米的SiO2五层，镀SiO2时沉积速率控制在0.4～0.6纳米/秒，镀TiO2沉积速率控制在0.15～0.3纳米/秒；

　　　4）中漆喷涂，厚度控制在8 微米；

　　　5）面漆喷涂，厚度控制在17微米。

实施例2

　　　本实施例以ABS和PC分别内侧和外侧的基材，采用的泛彩光学镀膜表面制造方法包括如下步骤：

　　　1）清洁基材表面；

　　　2）底漆喷涂，厚度控制在25微米；进行附着力测试；

　　　3）镀膜，膜层依次采用7纳米 的SiO2，14纳米 的TiO2，3纳米的SiO2，19纳米的TiO2，27纳米的SiO2五层，镀SiO2时沉积速率控制在0.4～0.6纳米/秒，镀TiO2沉积速率控制在0.15～0.3纳米/秒；进行附着力测试；

　　　4）中漆喷涂，厚度控制在6 微米；进行附着力测试；

　　　5）面漆喷涂，厚度控制在20微米。进行附着力测试；

　　　然后对产品进行耐水煮性测试。

实施例3

　　　本实施例以玻璃纤维为基材，采用的泛彩光学镀膜表面制造方法包括如下步骤：

　　　1）清洁基材表面；

　　　2）底漆喷涂，厚度控制在23微米； 

　　　3）镀膜，膜层依次采用10纳米 的SiO2，14纳米 的TiO2，5纳米的SiO2，18纳米的TiO2，23.5纳米的SiO2五层，镀SiO2时沉积速率控制在0.4～0.6纳米/秒，镀TiO2沉积速率控制在0.15～0.3纳米/秒；

　　　4）中漆喷涂，厚度控制在6 微米； 

　　　5）面漆喷涂，厚度控制在20微米。

实施例4