[发明专利]泛彩光学镀膜表面及其制造方法在审
| 申请号： | 201210498127.1 | 申请日： | 2012-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN103849858A | 公开（公告）日： | 2014-06-11 |
| 发明（设计）人： | 刘红彪;易宁;李晓东 | 申请（专利权）人： | 东莞华清光学科技有限公司;东莞劲胜精密组件股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C18/12 | 分类号： | C23C18/12 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 罗晓林;李志强 |
| 地址： | 523861 广东省东莞市长*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 彩光 镀膜 表面 及其 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种泛彩光学镀膜表面制造方法，包括如下步骤：
1）清洁基材表面；
2）底漆喷涂，厚度控制在23～27微米；
3）镀膜，膜层依次采用6～10纳米 的SiO2，12～14纳米 的TiO2，3～7纳米的SiO2，18～22纳米的TiO2，23.5～27.5纳米的SiO2五层，镀SiO2时沉积速率控制在 0.4～0.6纳米/秒，镀TiO2沉积速率控制在0.15～0.3纳米/秒；
4）中漆喷涂，厚度控制在5～9 微米；
5）面漆喷涂，厚度控制在16～20微米。
2.按照权利要求1所述的泛彩光学镀膜表面制造方法，其特征在于：在上述步骤（2）、（3）、（4）、（5）中的任意一步或几步完成后对产品进行附着力测试。
3.按照权利要求1或2所述的泛彩光学镀膜表面制造方法，其特征在于：步骤（5）完成后对产品进行耐水煮性测试。
4.一种泛彩光学镀膜表面，包括底漆、镀膜层、中漆及面漆，其特征在于：底漆厚度为23～27微米，中漆厚度为5～9微米，面漆厚度为16～20微米，镀膜层依次包括厚度为6～10纳米 的SiO2，12～14纳米 的TiO2，3～7纳米的SiO2，18～22纳米的TiO2，23.5～27.5纳米的SiO2五层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东莞华清光学科技有限公司;东莞劲胜精密组件股份有限公司，未经东莞华清光学科技有限公司;东莞劲胜精密组件股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210498127.1/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种磷矿脱碳煅烧装置
- 下一篇：制冷装置的门体或箱体及其制备方法及制冷装置
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法，例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法，例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀，即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法，例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法，例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀，即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
