[发明专利]一种多栅极高压场效应晶体管有效

专利信息
申请号: 201210454134.1 申请日: 2012-11-13
公开(公告)号: CN102983166A 公开(公告)日: 2013-03-20
发明(设计)人: 王钊 申请(专利权)人: 无锡中星微电子有限公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/423
代理公司: 无锡互维知识产权代理有限公司 32236 代理人: 戴薇
地址: 214028 江苏省无锡市新*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种高压场效应晶体管,其包括衬体区、自衬体区上表面向下延伸至所述衬体区内的衬体接触、自衬体区上表面向下延伸至所述衬体区内的源极、与衬体区相互间隔的漏极,以及位于漏极和衬体区之间的漂移区,所述源极位于所述衬体接触和所述漏极之间。所述高压场效应晶体管还包括位于源极和漏极之间且位于漂移区和衬体区上方的复数个栅氧层以及位于对应栅极层上的复数个栅极。这样,上述高压场效应晶体管单元作为功率开关,其可以在不增加功率开关的版图面积的前提下,减小功率开关的导通电阻,从而减小其导通时的导通功率损耗。
搜索关键词: 一种 栅极 高压 场效应 晶体管
【主权项】:
一种高压场效应晶体管,其特征在于,其包括衬体区、自衬体区上表面向下延伸至所述衬体区内的衬体接触、自衬体区上表面向下延伸至所述衬体区内的源极、与衬体区相互间隔的漏极,以及位于漏极和衬体区之间的漂移区,所述源极位于所述衬体接触和所述漏极之间,其特征在于,所述高压场效应晶体管还包括位于源极和漏极之间且位于漂移区和衬体区上方的复数个栅氧层以及位于对应栅极层上的复数个栅极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡中星微电子有限公司,未经无锡中星微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210454134.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top