[发明专利]碳化硅坩埚内壁铌铁铜硅烧结垢层去除清洗剂及制备方法无效
| 申请号： | 201210453277.0 | 申请日： | 2012-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN103102183A | 公开（公告）日： | 2013-05-15 |
| 发明（设计）人： | 潘德顺;辛钢;李富民 | 申请（专利权）人： | 三达奥克化学股份有限公司 |
| 主分类号： | C04B41/91 | 分类号： | C04B41/91 |
| 代理公司： | 大连非凡专利事务所 21220 | 代理人： | 闪红霞 |
| 地址： | 116000 辽宁省*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明公开一种碳化硅坩埚内壁铌铁铜硅烧结垢层去除清洗剂，由如下质量百分比的组分构成：工业一级盐酸（>31%）10~60%、氢氟酸1~10%、工业一级硫酸（≧98%）1~13%、巴斯夫甲基磺酸1~8%、蚁酸1~10%、磷酸1~6%、除积碳专用表面活性剂0.1~1%、JFC0.1~1%、酸性脱脂除油专用低泡表面活性剂0.1~1%及去离子水余量。制备方法按如下步骤进行：先将水加入到反应釜中，转速为30转/分钟，然后依次将盐酸、氢氟酸、硫酸、巴斯夫甲基磺酸、蚁酸、磷酸、除积碳专用表面活性剂、JFC、酸性脱脂除油专用低泡表面活性剂徐徐加入到反应釜中，每加入一种原料搅拌均匀，所有原料加入后继续搅拌30分钟。 | ||
| 搜索关键词： | 碳化硅 坩埚 内壁 铌铁铜硅 烧结 去除 洗剂 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种碳化硅坩埚内壁铌铁铜硅烧结垢层去除清洗剂，其特征在于由如下质量百分比的组分构成：工业一级盐酸（>31%）10~60%、氢氟酸1~10%、工业一级硫酸（≧98%）1~13%、巴斯夫甲基磺酸1~8%、蚁酸1~10%、磷酸1~6%、除积碳专用表面活性剂0.1~1%、JFC 0.1~1%、酸性脱脂除油专用低泡表面活性剂0.1~1%及去离子水余量。
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