[发明专利]碳化硅坩埚内壁铌铁铜硅烧结垢层去除清洗剂及制备方法

权利要求书

1. 一种碳化硅坩埚内壁铌铁铜硅烧结垢层去除清洗剂，其特征在于由如下质量百分比的组分构成：工业一级盐酸（>31%）10~60%、氢氟酸1~10%、工业一级硫酸（≧98%）1~13%、巴斯夫甲基磺酸1~8%、蚁酸1~10%、磷酸1~6%、除积碳专用表面活性剂0.1~1%、JFC 0.1~1%、酸性脱脂除油专用低泡表面活性剂0.1~1%及去离子水余量。

2.一种如权利要求1所述碳化硅坩埚内壁铌铁铜硅烧结垢层去除清洗剂的制备方法，其特征在于按如下步骤进行：先将计算称量的水加入到反应釜中，开动搅拌器，转速为30转/分钟，然后依次将计算称量的盐酸、氢氟酸、硫酸、巴斯夫甲基磺酸、蚁酸、磷酸、除积碳专用表面活性剂、JFC、酸性脱脂除油专用低泡表面活性剂徐徐加入到反应釜中，每加入一种原料搅拌均匀，所有原料加入后继续搅拌30分钟。