[发明专利]成膜装置及成膜方法

摘要

本发明提供一种成膜装置及成膜方法。光CVD装置(成膜装置)(1)通过对原料气体照射光而生成晶种，并通过使晶种在基板(2)上堆积而使膜成长，并且在光源(13)和保持基板(2)的样品台(基板保持部)(14)之间配置遮光板(遮光构件)(20)。遮光板(20)具有：与基板(2)的成膜面(2a)相对的背面(20a)、位于背面(20a)相反侧的表面(20b)、以及从背面(20a)及表面(20b)中的一方贯穿到另一方的多个贯穿孔(21)。此外，遮光板(20)的背面(20a)和基板(2)的成膜面(2a)的距离(C1)在原料气体的气体分子的平均自由行程以下。根据本发明，能够防止或抑制作为成膜对象物的基板的劣化。

主权项

一种成膜装置，其通过对原料气体照射光而生产晶种，并通过使所述晶种在基板上堆积而使膜成长，所述成膜装置的特征在于，包括：成膜处理室，其收容所述基板；气体供给部，其向所述成膜处理室内供给所述原料气体；光源，其对所述成膜处理室内照射所述光；基板保持部，其在所述成膜处理室内，以使所述基板的成膜面朝向所述光源侧的方式保持所述基板；以及遮光构件，其配置在所述成膜处理室内的所述基板和所述光源之间，所述遮光构件包括：与所述基板的所述成膜面相对的第一面、位于所述第一面相反侧的第二面、以及从所述第一面及所述第二面中的一方贯穿到另一方的多个贯穿孔，所述遮光构件的所述第一面和所述基板的所述成膜面的分隔距离在所述原料气体的分子的平均自由行程以下。