[发明专利]等离子体处理装置以及等离子体处理方法有效
| 申请号： | 201210414355.6 | 申请日： | 2012-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN103094039A | 公开（公告）日： | 2013-05-08 |
| 发明（设计）人： | 奥村智洋;川浦广 | 申请（专利权）人： | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 张劲松 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 等离子体处理装置，包括：长形的腔室，其具有开口部；气体供给装置，其向腔室内供给气体；螺旋线圈，其在与腔室的长边方向平行的方向上具有细长的形状；以及高频电源，其连接于螺旋线圈，该等离子体处理装置还包括：基材载置台，其与开口部相对配置，并且保持基材；以及移动机构，其在腔室的长边方向与开口部的长边方向平行配置的状态下，能够在与开口部的长边方向垂直的方向上相对地移动腔室与基材载置台。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
等离子体处理装置，包括：长形的腔室，其具有开口部；气体供给装置，其向所述腔室内供给气体；螺旋线圈，其在与所述腔室的长边方向平行的方向上具有细长的形状；以及高频电源，其连接于所述螺旋线圈，该等离子体处理装置还包括：基材载置台，其与所述开口部相对配置，并且保持基材；以及移动机构，其在所述腔室的长边方向与所述开口部的长边方向平行配置的状态下，能够在与所述开口部的长边方向垂直的方向上相对地移动所述腔室和所述基材载置台。
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