[发明专利]掩膜板及其制备方法无效
| 申请号： | 201210401411.2 | 申请日： | 2012-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN103777461A | 公开（公告）日： | 2014-05-07 |
| 发明（设计）人： | 周明杰;梁艳馨;陈贵堂 | 申请（专利权）人： | 海洋王照明科技股份有限公司;深圳市海洋王照明技术有限公司;深圳市海洋王照明工程有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/38 | 分类号： | G03F1/38;G03F1/68 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 何平 |
| 地址： | 518100 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩膜板，包括衬底和沉积在所述衬底的一侧的薄膜层；所述衬底上设置有通孔，所述薄膜层与所述通孔对应的区域设置有掩膜图案，所述薄膜层的材质为金属或金属氧化物。上述掩膜板包括衬底和沉积在衬底一侧的薄膜层，衬底上设置有通孔，并且薄膜层与所述通孔对应的区域设置有掩膜图案，衬底的材质为金属或金属氧化物。和传统的掩膜板相比，这种掩膜板的衬底的材质不局限于透明材质，而是不透明材质，消除了传统的掩膜板对衬底的材质选择的限制。本发明还提供一种上述掩膜板的制备方法。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜板 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种掩膜板，其特征在于，包括衬底和沉积在所述衬底的一侧的薄膜层；所述衬底上设置有通孔，所述薄膜层与所述通孔对应的区域设置有掩膜图案，所述薄膜层的材质为金属或金属氧化物。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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