[发明专利]用于非晶硅电池沉积的等离子体气相沉积设备与方法有效
申请号: | 201210399015.0 | 申请日: | 2012-10-19 |
公开(公告)号: | CN103774116A | 公开(公告)日: | 2014-05-07 |
发明(设计)人: | 陈五奎;雷晓全;王斌 | 申请(专利权)人: | 陕西拓日新能源科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/50;C23C16/24;H01L31/18 |
代理公司: | 北京汉昊知识产权代理事务所(普通合伙) 11370 | 代理人: | 孟海娟 |
地址: | 715200 陕西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及太阳能领域,尤其涉及用于非晶硅电池沉积的等离子体气相沉积设备与方法。本发明采取如下技术方案:用于非晶硅电池沉积的等离子体气相沉积设备,其特征在于,包含沉积室,沉积室内壁有传热管道,沉积室通过管道和外部连接,沉积室包含可开的一面门,沉积室内部有运动导轨以及压力传感器和温度传感器。采用如上技术方案的本发明,具有如下有益效果:镀膜效果好,节省加热能源,可以精确实现限位,使得整个装置运行稳定。 | ||
搜索关键词: | 用于 非晶硅 电池 沉积 等离子体 设备 方法 | ||
【主权项】:
用于非晶硅电池沉积的等离子体气相沉积设备,其特征在于,包含沉积室(1),沉积室(1)内壁有传热管道,沉积室(1)通过管道和外部连接,沉积室(1)包含可开的一面门,沉积室(1)内部有运动导轨(2)以及压力传感器(4)和温度传感器(5)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于陕西拓日新能源科技有限公司,未经陕西拓日新能源科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210399015.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:粉碎机
- 下一篇:接入类型智能判定的地址分配方法、系统及AAA系统
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的