[发明专利]一种适用于倒焊装的半导体激光器芯片结构无效
申请号: | 201210382302.0 | 申请日: | 2012-10-11 |
公开(公告)号: | CN102882124A | 公开(公告)日: | 2013-01-16 |
发明(设计)人: | 李特;李再金;郝二娟;王钰智;芦鹏;乔忠良;邹永刚;赵英杰;刘国军;马晓辉 | 申请(专利权)人: | 长春理工大学 |
主分类号: | H01S5/042 | 分类号: | H01S5/042;H01S5/02 |
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地址: | 130022 吉林*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 本发明涉及半导体激光器技术领域,提出了一种适用于倒焊装的半导体激光器芯片结构,主要包括:衬底层1,缓冲层2,N型包覆层3,下波导层4,有源区5,上波导层6,P型包覆层7,过渡层8,P型接触层9,脊型台面10,电流限制沟道11,分离沟道12。本发明能够提高半导体激光器管芯与焊料以及热沉的接触面积,提高管芯的抗压能力和散热能力,避免由于焊料爬升引起的短路现象。 | ||
搜索关键词: | 一种 适用于 倒焊装 半导体激光器 芯片 结构 | ||
【主权项】:
一种适用于倒焊装的半导体激光器芯片结构,其特征在于,包括:一衬底层(1),该衬底用于支撑半导体激光器各层外延材料,并作为激光器的N面电极接触层,衬底是N型砷化镓材料;一缓冲层(2),该缓冲层制作在衬底(1)上,为N‑砷化镓材料;一N型包覆层(3),该N型包覆层制作在缓冲层(2)上,为N型铝镓砷材料;一下波导层(4),该下波导层制作在N型包覆层(3)上,为铝镓砷材料;一有源区(5),该有源区制作在下波导层(4)上,为单量子阱层,为镓砷磷材料;一上波导层(6),该上波导层制作在有源区(5)上,为铝镓砷材料;一P型包覆层(7),该P型包覆层制作在上波导层(6)上,为P型铝镓砷材料;一过渡层(8),该过渡层制作在P型包覆层(7)上,为P型砷化镓材料;一P型接触层(9),该P型接触层制作在过渡层(8)上,为P型砷化镓材料;一脊型台面(10),该脊型台面制作在管芯中心;一电流限制沟道(11),该电流限制沟道制作在脊型台面的两侧;一分离沟道(12),该分离沟道位于管芯的左右两侧。
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