[发明专利]一种适用于倒焊装的半导体激光器芯片结构无效

专利信息
申请号: 201210382302.0 申请日: 2012-10-11
公开(公告)号: CN102882124A 公开(公告)日: 2013-01-16
发明(设计)人: 李特;李再金;郝二娟;王钰智;芦鹏;乔忠良;邹永刚;赵英杰;刘国军;马晓辉 申请(专利权)人: 长春理工大学
主分类号: H01S5/042 分类号: H01S5/042;H01S5/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 130022 吉林*** 国省代码: 吉林;22
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及半导体激光器技术领域,提出了一种适用于倒焊装的半导体激光器芯片结构,主要包括:衬底层1,缓冲层2,N型包覆层3,下波导层4,有源区5,上波导层6,P型包覆层7,过渡层8,P型接触层9,脊型台面10,电流限制沟道11,分离沟道12。本发明能够提高半导体激光器管芯与焊料以及热沉的接触面积,提高管芯的抗压能力和散热能力,避免由于焊料爬升引起的短路现象。
搜索关键词: 一种 适用于 倒焊装 半导体激光器 芯片 结构
【主权项】:
一种适用于倒焊装的半导体激光器芯片结构,其特征在于,包括:一衬底层(1),该衬底用于支撑半导体激光器各层外延材料,并作为激光器的N面电极接触层,衬底是N型砷化镓材料;一缓冲层(2),该缓冲层制作在衬底(1)上,为N‑砷化镓材料;一N型包覆层(3),该N型包覆层制作在缓冲层(2)上,为N型铝镓砷材料;一下波导层(4),该下波导层制作在N型包覆层(3)上,为铝镓砷材料;一有源区(5),该有源区制作在下波导层(4)上,为单量子阱层,为镓砷磷材料;一上波导层(6),该上波导层制作在有源区(5)上,为铝镓砷材料;一P型包覆层(7),该P型包覆层制作在上波导层(6)上,为P型铝镓砷材料;一过渡层(8),该过渡层制作在P型包覆层(7)上,为P型砷化镓材料;一P型接触层(9),该P型接触层制作在过渡层(8)上,为P型砷化镓材料;一脊型台面(10),该脊型台面制作在管芯中心;一电流限制沟道(11),该电流限制沟道制作在脊型台面的两侧;一分离沟道(12),该分离沟道位于管芯的左右两侧。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长春理工大学,未经长春理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210382302.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top