[发明专利]一种适用于倒焊装的半导体激光器芯片结构无效
申请号: | 201210382302.0 | 申请日: | 2012-10-11 |
公开(公告)号: | CN102882124A | 公开(公告)日: | 2013-01-16 |
发明(设计)人: | 李特;李再金;郝二娟;王钰智;芦鹏;乔忠良;邹永刚;赵英杰;刘国军;马晓辉 | 申请(专利权)人: | 长春理工大学 |
主分类号: | H01S5/042 | 分类号: | H01S5/042;H01S5/02 |
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地址: | 130022 吉林*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 适用于 倒焊装 半导体激光器 芯片 结构 | ||
1.一种适用于倒焊装的半导体激光器芯片结构,其特征在于,包括:
一衬底层(1),该衬底用于支撑半导体激光器各层外延材料,并作为激光器的N面电极接触层,衬底是N型砷化镓材料;
一缓冲层(2),该缓冲层制作在衬底(1)上,为N-砷化镓材料;
一N型包覆层(3),该N型包覆层制作在缓冲层(2)上,为N型铝镓砷材料;
一下波导层(4),该下波导层制作在N型包覆层(3)上,为铝镓砷材料;
一有源区(5),该有源区制作在下波导层(4)上,为单量子阱层,为镓砷磷材料;
一上波导层(6),该上波导层制作在有源区(5)上,为铝镓砷材料;
一P型包覆层(7),该P型包覆层制作在上波导层(6)上,为P型铝镓砷材料;
一过渡层(8),该过渡层制作在P型包覆层(7)上,为P型砷化镓材料;
一P型接触层(9),该P型接触层制作在过渡层(8)上,为P型砷化镓材料;
一脊型台面(10),该脊型台面制作在管芯中心;
一电流限制沟道(11),该电流限制沟道制作在脊型台面的两侧;
一分离沟道(12),该分离沟道位于管芯的左右两侧。
2.根据权利要求1所述的适用于倒焊装的半导体激光器结构,其特征在于,电流限制沟道(11)的深度在P型接触层(9)之下,沟道内电阻大于脊型台面,容易限制注入电流的注入路径,提高器件的电光转换效率。
3.根据权利要求1所述的适用于倒焊装的半导体激光器结构,其特征在于,分离沟道(12)的深度在缓冲层(2)之下,沟道与台面的台阶容易阻止焊料的攀爬,避免因焊料爬升引起的短路现象,从而提高器件的可靠性。
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