[发明专利]以时间基准为参照的精密光栅制造方法

摘要

本发明公开了一种以时间基准为参照的精密光栅制造方法，该方法提出了一种在纳米制造中以时间映射长度作为加工控制量基准的方法，利用高能束（电子束、离子束、激光束等）作为加工能量源，实现纳米级/亚纳米级精度精密光栅制造。该方法回避了传统的以长度作为加工控制量基准，针对纳米制造过程中纳米级精度材料去除，比传统长度计量精度将提高2个数量级。该方法将时间度量长度的方法应用于精密光栅制造中，可实现纳米/亚纳米级精度精密光栅的加工精度要求。

主权项

以时间基准为参照的精密光栅制造方法，其特征在于，包括如下步骤：1)清洗待加工工件；2)时间映射长度的转换：根据待加工工件的结构参数、工件的材料，对工件进行加工的高能束的脉宽、能量密度以及工件的进给速度，进行以时间为基准映射长度基准的转换，得到以时间为基准的纳米加工控制量：沟槽处连续加工脉冲数N1和高能束循环加工次数N2；3)根据脉冲数N1控制时钟开关的打开、根据高能束循环加工次数N2达到所需纳米结构的槽深，进行精密光栅的制造。