[发明专利]以时间基准为参照的精密光栅制造方法

权利要求书

1.以时间基准为参照的精密光栅制造方法，其特征在于，包括如下步骤：

1)清洗待加工工件；

2)时间映射长度的转换：根据待加工工件的结构参数、工件的材料，对工件进行加工的高能束的脉宽、能量密度以及工件的进给速度，进行以时间为基准映射长度基准的转换，得到以时间为基准的纳米加工控制量：沟槽处连续加工脉冲数N₁和高能束循环加工次数N₂；

3)根据脉冲数N₁控制时钟开关的打开、根据高能束循环加工次数N₂达到所需纳米结构的槽深，进行精密光栅的制造。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述步骤2)中沟槽处连续加工脉冲数N₁和高能束循环加工次数N₂的计算方法如下：

首先，计算单个沟槽处脉冲连续加工时间t₁：沟槽处连续加工脉冲数N₁：

N1=t1ΔT=L1vΔT;]]>

然后，计算单个凸起处脉冲停止工作时间t₂：高能束循环加工次数N₂：

N2=Hh;]]>

其中，待加工工件的纳米结构：L₁为槽宽，L₂为凸起宽度，H为槽深，ΔT为高能束脉宽，h为单次脉冲加工的深度；v为待加工工件的进给速度。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于：通过调节高能束的脉宽ΔT、高能束束斑的工作能量密度和工件的进给速度v，调节光栅的加工精度。

4.根据权利要求1-3任一项所述的方法，其特征在于：对于纳米尺度为10nm~100nm的周期的光栅加工，所述高能束为电子束或离子束。

5.根据权利要求1-3任一项所述的方法，其特征在于：对于亚微米至微米尺度为100nm~20μm周期的光栅加工，所述高能束为离子束或激光。