[发明专利]固相-数字PCR芯片及其制作方法无效
申请号: | 201210369310.1 | 申请日: | 2012-09-27 |
公开(公告)号: | CN102899244A | 公开(公告)日: | 2013-01-30 |
发明(设计)人: | 韩伟静;魏清泉;孙英男;李运涛;俞育德;周晓光 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | C12M1/34 | 分类号: | C12M1/34 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 汤保平 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种固相-数字PCR芯片的制作方法,包括如下步骤:步骤1:取一基片,去除表面有机及无机杂质,并进行真空干燥;步骤2:在基片正面生长牺牲层;步骤3:通过光刻工艺和刻蚀工艺将掩模图形转移到牺牲层上;步骤4:以牺牲层为掩膜,通过刻蚀工艺,在基片上形成微孔阵列;步骤5:取一盖片,去除表面有机及无机杂质,并进行真空干燥;步骤6:在盖片正面旋涂PDMS膜,并加热使PDMS膜固化;步骤7:对PDMS膜进行表面处理,并将DNA探针结合在PDMS膜的表面;步骤8:将基片与盖片键合,使基片上微孔阵列中的每个微孔形成独立反应池,形成固相-数字PCR芯片。本发明具有制作简单,易操作,成本低廉的优点。 | ||
搜索关键词: | 固相 数字 pcr 芯片 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种固相‑数字PCR芯片的制作方法,包括如下步骤:步骤1:取一基片,去除表面有机及无机杂质,并进行真空干燥;步骤2:在基片正面生长牺牲层;步骤3:通过光刻工艺和刻蚀工艺将掩模图形转移到牺牲层上;步骤4:以牺牲层为掩膜,通过刻蚀工艺,在基片上形成微孔阵列;步骤5:取一盖片,去除表面有机及无机杂质,并进行真空干燥;步骤6:在盖片正面旋涂PDMS膜,并加热使PDMS膜固化;步骤7:对PDMS膜进行表面处理,并将DNA探针结合在PDMS膜的表面;步骤8:将基片与盖片键合,使基片上微孔阵列中的每个微孔形成独立反应池,形成固相‑数字PCR芯片。
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