[发明专利]一种掩膜板对准标记布局方法无效
| 申请号： | 201210343548.7 | 申请日： | 2012-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN102866604A | 公开（公告）日： | 2013-01-09 |
| 发明（设计）人： | 朱骏 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 竺路玲 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩膜板对准标记布局方法，属于微电子制造领域，步骤包括：步骤a，在掩膜板上分布XOY坐标轴，将掩膜板的中心点设为所述坐标轴的原点；步骤b，所述坐标轴的X轴单位设为毫米（mm），所述坐标轴的Y轴单位设为毫米（mm）；步骤c，在所述掩膜板上，依据XOY坐标轴设置坐标为（-46，-4.8）的对准标记1；步骤d，在所述掩膜板上，依据XOY坐标轴设置坐标为（46，4.8）的对准标记2；上述技术方案的有益效果是：克服了掩膜板下部曝光而上部不发生曝光而使得上部的对准标记与下部的对准标记通过温度不均匀的镜头，进而导致对准发生漂移，从而套准精度恶化的情况，改进掩膜板的套准精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜板 对准 标记 布局 方法 | ||
【主权项】：
一种掩膜板对准标记布局方法，适用于步进式重复曝光光刻机，其特征在于，包括以下步骤：步骤a，在掩膜板上分布XOY坐标轴，将掩膜板的中心点设为所述坐标轴的原点；步骤b，所述坐标轴的X轴单位设为毫米（mm），所述坐标轴的Y轴单位设为毫米（mm）；步骤c，在所述掩膜板上，依据XOY坐标轴设置坐标为（‑46，4.8）的对准标记1；步骤d，在所述掩膜板上，依据XOY坐标轴设置坐标为（46，4.8）的对准标记2。
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