[发明专利]一种掩膜板对准标记布局方法无效
| 申请号： | 201210343548.7 | 申请日： | 2012-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN102866604A | 公开（公告）日： | 2013-01-09 |
| 发明（设计）人： | 朱骏 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 竺路玲 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜板 对准 标记 布局 方法 | ||
1.一种掩膜板对准标记布局方法，适用于步进式重复曝光光刻机，其特征在于，包括以下步骤：
步骤a，在掩膜板上分布XOY坐标轴，将掩膜板的中心点设为所述坐标轴的原点；
步骤b，所述坐标轴的X轴单位设为毫米（mm），所述坐标轴的Y轴单位设为毫米（mm）；
步骤c，在所述掩膜板上，依据XOY坐标轴设置坐标为（-46，4.8）的对准标记1；
步骤d，在所述掩膜板上，依据XOY坐标轴设置坐标为（46，4.8）的对准标记2。
2.如权利要求1所述的掩膜板对准标记布局方法，其特征在于，在所述掩膜板上设置有多层使用同一类光刻曝光设备的光刻工艺层。
3.如权利要求1所述的掩膜板对准标记布局方法，其特征在于，在所述掩膜板上，依据XOY坐标轴设置坐标为（-46,67.8）的对准标记3。
4.如权利要求1所述的掩膜板对准标记布局方法，其特征在于，在所属掩膜板上，依据XOY坐标轴设置坐标为（46,67.8）的对准标记4。
5.如权利要求1所述的掩膜板对准标记布局方法，其特征在于，在所述掩膜板上，依据XOY坐标轴设置坐标为（-46，-67.8）的对准标记5。
6.如权利要求1所述的掩膜板对准标记布局方法，其特征在于，在所述掩膜板上，依据XOY坐标轴设置坐标为（46，-67.8）的对准标记6。
7.如权利要求1-7中任意一项所述的掩膜板对准标记布局方法，其特征在于，每个所述对准标记与所述掩膜板上的设计图形之间的距离为1.5毫米。
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