[发明专利]一种实现局域寿命控制的IGBT及其制造方法在审
申请号: | 201210307678.5 | 申请日: | 2012-08-27 |
公开(公告)号: | CN103633129A | 公开(公告)日: | 2014-03-12 |
发明(设计)人: | 吴海平;秦博;肖秀光 | 申请(专利权)人: | 比亚迪股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/739 | 分类号: | H01L29/739;H01L29/06;H01L21/331 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 张大威 |
地址: | 518118 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 发明提出了一种实现局域寿命控制的IGBT及其制造方法,该IGBT包括集电区,在集电区之上形成有缓冲层,在缓冲层之上形成有漂移区,在集电区与漂移区之间形成有至少一层低寿命高复合层,该低寿命高复合层内具有复合中心,能够降低载流子的寿命,在漂移区内形成有阱区,在阱区内形成有发射区,在漂移区之上依次形成有栅介质层、栅极和发射极,在集电区之下形成有集电极。本发明在集电区与漂移区之间形成有至少一层低寿命高复合层,该低寿命高复合层可以复合器件通态时产生的大量过剩载流子,提高复合电流,减小集电区空穴注入,从而降低关断拖尾时间,达到降低开关时间、开关损耗的目的,并提高器件抗闩锁能力。 | ||
搜索关键词: | 一种 实现 局域 寿命 控制 igbt 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种实现局域寿命控制的IGBT,其特征在于,包括:集电区,所述集电区为重掺杂;在所述集电区之上形成有缓冲层,所述缓冲层为重掺杂,其导电类型与所述集电区的导电类型相反;在所述缓冲层之上形成有漂移区,所述漂移区为轻掺杂,其导电类型与所述集电区的导电类型相反;在所述集电区与所述漂移区之间形成有至少一层低寿命高复合层,所述低寿命高复合层内具有复合中心;在所述漂移区内形成有阱区,在所述阱区内形成有发射区,所述阱区的导电类型与所述集电区的导电类型相同,所述发射区为重掺杂,其导电类型与所述集电区的导电类型相反;在所述漂移区之上依次形成有栅介质层、栅极和发射极;在所述集电区之下形成有集电极。
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