[发明专利]利用反射泰铂效应成像的方法及其应用及装置有效
| 申请号： | 201210304971.6 | 申请日： | 2012-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN102890060A | 公开（公告）日： | 2013-01-23 |
| 发明（设计）人： | 黄伟其 | 申请（专利权）人： | 贵州大学 |
| 主分类号： | G01N21/17 | 分类号： | G01N21/17;G02B27/09;G02B21/36 |
| 代理公司： | 贵阳中新专利商标事务所 52100 | 代理人： | 李亮;程新敏 |
| 地址： | 550025 贵州省贵*** | 国省代码： | 贵州;52 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种利用反射泰铂效应成像的方法及其应用及装置，用激光束作照明光源，通过光路修整激光的波形后，对不透明的周期结构样品进行照射，使照射后产生的反射光束在反射泰铂像屏上成像。本发明采用激光作为光源，通过光路修整激光的波形后，对不透明的周期结构样品进行照射，使照射后产生反射自成像。本发明可应用于各种激光微加工结构的观察与控制系统中，特别是在硅基上的光子晶体与波导的光子制备中，它能对真空腔中的样品实现在线的反射泰铂成像放大与显微分析，极大的简化了硅基上微结构的放大与显微工序，提高了生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 反射 效应 成像 方法 及其 应用 装置 | ||
【主权项】：
一种利用反射泰铂效应成像的方法，其特征在于：用激光束作照明光源，通过光路修整激光的波形后，对不透明的周期结构样品进行照射，使照射后产生的反射光束在反射泰铂像屏上成像。
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