[发明专利]反射光刻掩模和系统及方法有效
| 申请号： | 201210281319.7 | 申请日： | 2012-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN103309168A | 公开（公告）日： | 2013-09-18 |
| 发明（设计）人： | 刘键炫;王仁磐 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/24;G03F1/26 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;孙征 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 公开了各种非平坦反射光刻掩模、采用这种光刻掩模的系统和方法。实施例是一种光刻掩模，包括透明衬底、反射材料和中间掩模图案。透明衬底包括弯曲表面。反射材料邻接透明衬底的弯曲表面，并且反射材料和透明衬底之间的界面是反射面。中间掩模图案位于透明衬底的第二表面上。中间掩模图案的反射率低于反射材料的反射率。公开了形成类似光刻掩模和使用类似光刻掩模的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 光刻 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种系统，包括：第一辐射源；以及第一光刻掩模，包括第一非平坦反射面，所述第一光刻掩模被配置成通过所述第一非平坦反射面将来自所述辐射源的辐射以第一辐射图案反射至衬底。
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