[发明专利]具有软中间膜的气垫面外层及制造该气垫面外层的方法无效
| 申请号： | 201210273713.6 | 申请日： | 2012-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN102915745A | 公开（公告）日： | 2013-02-06 |
| 发明（设计）人： | 儿玉峰章;石崎浩;大川贵子;稻叶宏 | 申请（专利权）人： | 日立环球储存科技荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G11B5/31 | 分类号： | G11B5/31 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 张焕生;谢丽娜 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种具有软中间膜的气垫面外层及制造该气垫面外层的方法。在一个实施例中，一种磁头包括至少一个磁头元件，其用于从磁介质读取和/或向磁介质写入，该元件具有面向磁介质的气垫面（ABS）；在ABS上方的包含碳化硅的粘性膜，该粘性膜具有在水蒸汽局部压力下形成的特性；以及在粘性膜上方的保护膜，该保护膜包括碳。而且，在另一实施例中，一种方法包括：形成磁头的ABS，该ABS是在使用时距磁介质最近的磁头的表面；在磁头的ABS上方形成粘性膜，该粘性膜在水蒸汽局部压力下形成；以及在粘性膜上方形成保护膜，该保护膜包括碳。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 中间 气垫 外层 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种磁头，包括：至少一个磁头元件，所述至少一个磁头元件用于从磁介质读取和/或向磁介质写入，其中所述至少一个磁头元件包括气垫面（ABS）；在所述ABS上方的粘性膜，所述粘性膜包括氮化硅并具有在水蒸汽局部压力下形成的特性；以及在所述粘性膜上方的保护膜，所述保护膜包括碳。
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