[发明专利]阵列基板、液晶显示元件及阵列基板的制造方法有效
申请号: | 201210251981.8 | 申请日: | 2012-07-19 |
公开(公告)号: | CN102890352A | 公开(公告)日: | 2013-01-23 |
发明(设计)人: | 一戸大吾;米田英司 | 申请(专利权)人: | JSR株式会社 |
主分类号: | G02F1/1333 | 分类号: | G02F1/1333;G02F1/1337;G03F7/004;G03F7/027 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 臧建明 |
地址: | 日本东京港*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: |
本发明提供一种阵列基板、液晶显示元件及其制造方法,所述阵列基板包含由可低温硬化的负型感放射线性树脂组成物而形成的绝缘膜;且使用该阵列基板而提供液晶显示元件。由负型感放射线性树脂组成物而形成绝缘膜12,从而制造阵列基板1,所述负型感放射线性树脂组成物含有包含由选自由不饱和羧酸及不饱和羧酸酐所构成的群组中的至少1种所形成的结构单元以及由含有环氧基的不饱和化合物所形成的结构单元的共聚物、式(1)或式(2)的化合物。由阵列基板1而构成液晶显示元件。 |
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搜索关键词: | 阵列 液晶显示 元件 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种阵列基板,其是包含如下元件的液晶显示元件用阵列基板:开关有源元件、于所述开关有源元件上所配置的绝缘膜、于所述绝缘膜中所形成的接触孔、经由所述接触孔而与所述开关有源元件电性连接的像素电极,其特征在于:所述绝缘膜由含有如下共聚物的负型感放射线性树脂组成物而形成,所述共聚物包含由选自由不饱和羧酸及不饱和羧酸酐所构成的群组中的至少1种所形成的结构单元及由含有环氧基的不饱和化合物所形成的结构单元。
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