[发明专利]阵列基板、液晶显示元件及阵列基板的制造方法有效

专利信息
申请号: 201210251981.8 申请日: 2012-07-19
公开(公告)号: CN102890352A 公开(公告)日: 2013-01-23
发明(设计)人: 一戸大吾;米田英司 申请(专利权)人: JSR株式会社
主分类号: G02F1/1333 分类号: G02F1/1333;G02F1/1337;G03F7/004;G03F7/027
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 臧建明
地址: 日本东京港*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种阵列基板、液晶显示元件及其制造方法,所述阵列基板包含由可低温硬化的负型感放射线性树脂组成物而形成的绝缘膜;且使用该阵列基板而提供液晶显示元件。由负型感放射线性树脂组成物而形成绝缘膜12,从而制造阵列基板1,所述负型感放射线性树脂组成物含有包含由选自由不饱和羧酸及不饱和羧酸酐所构成的群组中的至少1种所形成的结构单元以及由含有环氧基的不饱和化合物所形成的结构单元的共聚物、式(1)或式(2)的化合物。由阵列基板1而构成液晶显示元件。
搜索关键词: 阵列 液晶显示 元件 制造 方法
【主权项】:
一种阵列基板,其是包含如下元件的液晶显示元件用阵列基板:开关有源元件、于所述开关有源元件上所配置的绝缘膜、于所述绝缘膜中所形成的接触孔、经由所述接触孔而与所述开关有源元件电性连接的像素电极,其特征在于:所述绝缘膜由含有如下共聚物的负型感放射线性树脂组成物而形成,所述共聚物包含由选自由不饱和羧酸及不饱和羧酸酐所构成的群组中的至少1种所形成的结构单元及由含有环氧基的不饱和化合物所形成的结构单元。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于JSR株式会社,未经JSR株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210251981.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top