[发明专利]一种制备量子点场效应晶体管列阵的方法无效
申请号: | 201210236350.9 | 申请日: | 2012-07-09 |
公开(公告)号: | CN102738191A | 公开(公告)日: | 2012-10-17 |
发明(设计)人: | 聂诚磊;杨晓红;王秀平;王杰;刘少卿;李彬;杨怀伟;尹伟红;韩勤 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146;B82Y10/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 宋焰琴 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种制备量子点场效应晶体管列阵的方法,包括:选择外延片,在外延片上涂光刻胶,对外延片腐蚀出台面,形成源漏沟道,其中同一行的源极在光刻时连在一起;在源极和漏极蒸镀电极,进行电极退火形成源漏与导电沟道的欧姆接触;蒸镀透明电极,在源漏电极之间光刻出栅条,其中同一行的栅条连在一起;在表面蒸镀绝缘层,并在外延片两端露出各行的源栅电极焊台;光刻并腐蚀绝缘层露出漏电极,然后蒸镀合金,并采用剥离技术使得同一列的漏电极连在一起;以及涂光刻胶,实现保护和表面钝化。利用本发明,解决了普通CCD无法有效进行弱光探测的问题,达到了低功耗、在微弱的光照条件下实现图像捕获的高增益弱光探测的目的。 | ||
搜索关键词: | 一种 制备 量子 场效应 晶体管 列阵 方法 | ||
【主权项】:
一种制备量子点场效应晶体管列阵的方法,其特征在于,包括:选择外延片,在外延片上涂光刻胶,对外延片腐蚀出台面,形成源漏沟道,其中同一行的源极在光刻时连在一起;在源极和漏极蒸镀电极,进行电极退火形成源漏与导电沟道的欧姆接触;蒸镀透明电极,在源漏电极之间光刻出栅条,其中同一行的栅条连在一起;在表面蒸镀绝缘层,并在外延片两端露出各行的源栅电极焊台;光刻并腐蚀绝缘层露出漏电极,然后蒸镀合金,并采用剥离技术使得同一列的漏电极连在一起;以及涂光刻胶,实现保护和表面钝化。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的