[发明专利]一种提高高反射薄膜激光损伤阈值的镀制方法

摘要

本发明涉及一种提高高反射薄膜激光损伤阈值的镀膜方法，该方法属于薄膜光学领域，主要针对高反射激光薄膜中影响损伤阈值高低的两个关键因素——吸收和缺陷，在电子束蒸镀每层膜结束后，采用高能离子束对薄膜进行轰击处理，此方法不但保留了电子束热蒸发方法镀制激光薄膜独特的有利的性能又同时改善了薄膜的本征吸收和缺陷密度，大大提高了高反射薄膜的激光损伤阈值，而且具有针对性强、品质高、简单易行的特点。

主权项

一种提高高反射薄膜激光损伤阈值的镀膜方法，其特征在于具体步骤如下：(1)镀膜机内放置蒸发材料，将基板清洗干净，然后利用高纯氮气吹干后放入镀膜机，所述蒸发材料为高折射材料和低折射材料；(2)真空室内抽真空，控制本底真空度为1×10‑3Pa～6×10‑3Pa，将基板加热至150度，并恒温80分钟；(3)镀膜开始前，先用离子源对基板表面清洗5分钟，控制氧离子流量为30～50sccm，氩离子流量为5～30sccm，电压为200V～600V，电流为300mA～1000mA；(4)利用电子束蒸发方式镀制第一层薄膜，即用电子束轰击低折射率蒸发材料，使材料温度升高、达到熔点并蒸发到基板上；(5)利用离子源对镀膜后的基板进行3分钟轰击，用离子源进行轰击样品时，控制氧离子流量为30～50sccm，氩离子流量为5～40sccm，电压为200V～800V，电流为400mA～1000mA；(6) 再用电子束轰击高折射率蒸发材料，使材料温度升高、达到熔点并蒸发到基板上，形成第二层薄膜，重复步骤（4）和步骤（5）；(7)依次重复步骤（4）、（5）、（6）交替镀膜，至最后一层膜镀制结束；(8)待真空室冷却至室温后取出镀制好的样品。