[发明专利]一种提高高反射薄膜激光损伤阈值的镀制方法

权利要求书

1.一种提高高反射薄膜激光损伤阈值的镀膜方法，其特征在于具体步骤如下：

(1)镀膜机内放置蒸发材料，将基板清洗干净，然后利用高纯氮气吹干后放入镀膜机，所述蒸发材料为高折射材料和低折射材料；

(2)真空室内抽真空，控制本底真空度为1×10^-3Pa～6×10^-3Pa，将基板加热至150度，并恒温80分钟；

(3)镀膜开始前，先用离子源对基板表面清洗5分钟，控制氧离子流量为30～50sccm，氩离子流量为5～30sccm，电压为200V～600V，电流为300mA～1000mA；

(4)利用电子束蒸发方式镀制第一层薄膜，即用电子束轰击低折射率蒸发材料，使材料温度升高、达到熔点并蒸发到基板上；

(5)利用离子源对镀膜后的基板进行3分钟轰击，用离子源进行轰击样品时，控制氧离子流量为30～50sccm，氩离子流量为5～40sccm，电压为200V～800V，电流为400mA～1000mA；

(6) 再用电子束轰击高折射率蒸发材料，使材料温度升高、达到熔点并蒸发到基板上，形成第二层薄膜，重复步骤（4）和步骤（5）；

(7)依次重复步骤（4）、（5）、（6）交替镀膜，至最后一层膜镀制结束；

(8)待真空室冷却至室温后取出镀制好的样品。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述基板是光学玻璃或晶体。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于每层薄膜镀制后，用离子源轰击时，氧离子流量：40sccm，氩离子流量20sccm，电压400V，电流800mA。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于镀膜开始前对基板用离子源进行轰击清洗时，氧离子流量：50sccm，氩离子流量10sccm，电压300V，电流600mA。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述高折射材料为金属或其氧化物，所述低折射材料为氧化硅。