[发明专利]一种碲化锌/砷化镓异质外延层的制备方法无效
申请号: | 201210205142.2 | 申请日: | 2012-06-20 |
公开(公告)号: | CN102709398A | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 冀子武;黄树来;赵雪琴;张磊;郭其新;徐现刚 | 申请(专利权)人: | 山东大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 | 代理人: | 许德山 |
地址: | 250100 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 一种碲化锌/砷化镓(ZnTe/GaAs)异质外延层的制备方法,属半导体材料制备技术领域,采用金属有机化学气相外延工艺,以二甲基锌和二乙基碲为金属有机源,用氢气作为载气,用金属有机化学气相外延设备在砷化镓衬底上生长碲化锌外延层。本发明方法制备的ZnTe/GaAs外延层具有窄的带边束缚激子峰和较大的发光强度,并且没有出现深能级发射及与位错有关的Y线,这些结果表明外延层有很好的结晶质量。本发明方法制备的ZnTe/GaAs外延层,可用于绿光LED和太赫兹发射器等光电器件的制备,并可实现与GaAs基器件的集成,具有广泛的应用前景。 | ||
搜索关键词: | 一种 碲化锌 砷化镓异质 外延 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种碲化锌/砷化镓异质外延层的制备方法,采用金属有机化学气相外延工艺,以二甲基锌和二乙基碲为金属有机源,用氢气作为载气,用金属有机化学气相外延设备在砷化镓衬底上生长碲化锌外延层;其工艺条件如下:反应室本底真空度:0.5-1.5×10‑7Torr;生长时衬底温度:390-440°C;二甲基锌输运速率:10-30μmol/min;二乙基碲输运速率:10-30μmol/min;生长时间:1-15h;在上述制备工艺条件下,碲化锌外延层的生长速率为1.4-4.3μm/h。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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