[发明专利]晶圆劈裂检知方法有效
| 申请号: | 201210196421.7 | 申请日: | 2012-06-14 |
| 公开(公告)号: | CN103050422A | 公开(公告)日: | 2013-04-17 |
| 发明(设计)人: | 张振昌;赵祐成 | 申请(专利权)人: | 竑腾科技股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 任默闻 |
| 地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | 本发明是关于一种晶圆劈裂检知方法,主要是于晶圆劈裂前由影像撷取器撷取承载台劈裂空间处的晶圆待劈裂切割道及其两侧区域影像,于晶圆劈裂作用时间区段撷取该承载台劈裂空间处的晶圆劈裂切割道及其两侧的影像,再由计算机以明暗灰阶比对手段分析所撷取晶圆劈裂前与劈裂时的晶圆劈裂切割道及劈裂切割道两侧区域影像的明暗灰阶度差异比值判断晶圆是否完整被劈裂,或由计算机以明暗灰阶比对手段分析晶圆劈裂作用时间区段的劈裂切割道两侧区域影像的明暗灰阶度差异比值判断晶圆是否完整被劈裂,提高判断自动化检知晶圆是否被完全劈裂的精确度。 | ||
| 搜索关键词: | 劈裂 方法 | ||
【主权项】:
一种晶圆劈裂检知方法,其特征在于,所述的晶圆劈裂检知方法包含:一晶圆劈裂前的取像步骤,于晶圆劈裂机承载台上的晶圆未进行劈裂作用前,由计算机控制影像撷取器自承载台下方向上撷取位于承载台劈裂空间处的晶圆待劈裂切割道及劈裂切割道两侧区域影像,并将所述晶圆裂片前的影像数据传送至计算机中储存;一晶圆劈裂步骤,由计算机控制晶圆劈裂机的劈刀由上而下对晶圆的预定切割道位置施以一冲击作用力,使晶圆沿受冲击的切割道产生分裂,并定义劈刀下降至劈裂高度冲击晶圆预定切割道位置而使晶圆分裂的时段为劈裂作用时间区段;一晶圆劈裂作用时的取像步骤,由计算机控制影像撷取器于所述劈裂作用时间区段自承载台下方向上撷取位于承载台劈裂空间处的晶圆劈裂切割道及其两侧的影像,并将所述晶圆劈裂作用后的影像数据传送至计算机中储存;以及一计算机分析影像步骤,是由计算机以明暗灰阶比对手段分析晶圆劈裂前、后的晶圆劈裂切割道及劈裂切割道两侧区域影像的明暗灰阶度差异比值,当分析判断晶圆劈裂前、后的晶圆劈裂切割道及其两侧区域影像的明暗灰阶度差异比值大于或等于5%时,判定晶圆被劈裂的切割道完全劈裂;若分析判断晶圆劈裂前、后的晶圆劈裂切割道及其两侧的影像的明暗灰阶度比值小于5%时,判定晶圆被劈裂的切割道未完全劈裂。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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