[发明专利]薄膜形成装置以及薄膜形成方法有效
| 申请号： | 201210182134.0 | 申请日： | 2012-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN102826762A | 公开（公告）日： | 2012-12-19 |
| 发明（设计）人： | 德安良纪;山本英明;渡濑直树;松井淳一;中村秀男 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立工业设备技术 |
| 主分类号： | C03C17/22 | 分类号： | C03C17/22 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 张斯盾 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够进行高精度且均匀的涂敷的薄膜形成装置以及薄膜形成方法。本发明中，是具备吸附保持涂敷对象物（100）的吸附工作台（9）、一面从喷墨式喷嘴向被吸附保持在吸附工作台（9）上的涂敷对象物（100）的表面排出涂敷材，一面进行薄膜形成的多个涂敷头（4）、使涂敷头（4）在涂敷对象物（100）的上方位置移动的龙门架（3）的薄膜形成装置（1），其中，龙门架（3）还具备将涂敷对象物（100）的表面加热的热源装置（31）。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 形成 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种薄膜形成装置，所述薄膜形成装置具备吸附保持涂敷对象物的吸附工作台、一面从喷墨式喷嘴向被吸附保持在该吸附工作台上的上述涂敷对象物的表面排出涂敷材，一面进行薄膜形成的多个涂敷头、使该涂敷头在上述涂敷对象物的上方位置移动的龙门架，其特征在于，上述龙门架还具备将上述涂敷对象物的表面加热的热源装置。
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