[发明专利]一种用于功率器件击穿保护的栅漏箝位和静电放电保护电路有效

专利信息
申请号: 201210181610.7 申请日: 2010-01-20
公开(公告)号: CN102655166A 公开(公告)日: 2012-09-05
发明(设计)人: 苏毅;安荷·叭剌;伍时谦 申请(专利权)人: 万国半导体有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/78;H01L27/06;H01L27/02;H01L21/336
代理公司: 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 代理人: 张静洁;徐雯琼
地址: 美国加利福尼亚桑*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种位于半导体衬底上的半导体功率器件,由多个晶体管单元组成,每个晶体管单元都有一个源极、一个栅极以及一个控制源极和栅极之间电流传输的漏极。这种半导体还包括一个栅漏箝位终端,串联在栅极和漏极之间,还包括多个背对背多晶硅二极管,串联在一个硅二极管上,在半导体衬底中,硅二极管含有平行掺杂纵栏,其中平行掺杂纵栏带有一个预设的缝隙。掺杂纵栏还包括一个U形弯管纵栏,将设置在U形弯管下方并包围U形弯管的深掺杂井,与平行掺杂纵栏末端连接在一起。
搜索关键词: 一种 用于 功率 器件 击穿 保护 箝位 静电 放电 电路
【主权项】:
一个位于半导体衬底上的半导体功率器件由多个沟道金属氧化物半导体场效应管单元组成,其特征在于,半导体功率器件还包括:一个串联在所述的栅极和所述的漏极之间的栅漏箝位终端,包括在一侧串联在一个硅二极管上的多个背对背多晶硅二极管,在所述的半导体衬底中,硅二极管含有至少一个掺杂纵栏,其中多个背对背多晶硅二极管在另一侧连接到一个栅极金属上,栅极金属与栅极浇道沟道直接接触;所述的栅漏箝位终端仅设置在支撑着所述的半导体功率器件的所述半导体衬底一个边缘附近的一侧。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于万国半导体有限公司,未经万国半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210181610.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top