[发明专利]表面高光洁度的难熔金属合金箔片零件及其制备方法有效
| 申请号： | 201210170000.7 | 申请日： | 2012-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN102699811A | 公开（公告）日： | 2012-10-03 |
| 发明（设计）人： | 王涛 | 申请（专利权）人： | 上海瑞钼特金属新材料有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/08 | 分类号： | B24B37/08;B24B37/10;C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海三方专利事务所 31127 | 代理人： | 吴干权;朱志祥 |
| 地址： | 201508 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及难熔金属合金箔片零件加工、表面处理技术领域，具体的说是表面高光洁度的难熔金属合金箔片零件及其制备方法，选用厚度在0.06～1mm范围的难熔金属的合金坯料，然后进行压力或机械加工并平整，根据要求加工成需要的尺寸和形状的箔片零件，采用机械研磨和抛光对所述的箔片零件进行单面或双面的表面处理，研磨和抛光均采用碳化硼抛光液，研磨和抛光压力为5~50kg，研磨时间为10~120min，抛光时间为10~240min，得到的产品零件厚度为0.05～0.95mm，表面粗糙度小于Ra0.002，本发明同现有技术相比，能满足大功率LED照明芯片、电子通讯、半导体等行业对于表面高光洁度零件的需求，其制备方法简单合理，成本低，能够广泛的用于各种领域。 | ||
| 搜索关键词： | 表面 光洁度 金属 金箔 零件 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种表面高光洁度的难熔金属合金箔片零件的制备方法，其特征在于该方法由以下步骤组成，a.选用厚度在0.06~1mm范围的难熔金属的合金坯料，b.对所述的坯料进行压力或机械加工，将坯料加工成板型并平整，c.根据要求加工成需要的尺寸和形状的箔片零件，d.采用机械研磨和抛光对所述的箔片零件进行单面或双面的表面处理，研磨和抛光均采用碳化硼抛光液，研磨和抛光压力为5~50kg，研磨时间为10~120min，抛光时间为10~240min。
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