[发明专利]表面高光洁度的难熔金属合金箔片零件及其制备方法有效
申请号: | 201210170000.7 | 申请日: | 2012-05-29 |
公开(公告)号: | CN102699811A | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 王涛 | 申请(专利权)人: | 上海瑞钼特金属新材料有限公司 |
主分类号: | B24B37/08 | 分类号: | B24B37/08;B24B37/10;C09G1/02 |
代理公司: | 上海三方专利事务所 31127 | 代理人: | 吴干权;朱志祥 |
地址: | 201508 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 表面 光洁度 金属 金箔 零件 及其 制备 方法 | ||
1.一种表面高光洁度的难熔金属合金箔片零件的制备方法,其特征在于该方法由以下步骤组成,
a.选用厚度在0.06~1mm范围的难熔金属的合金坯料,
b.对所述的坯料进行压力或机械加工,将坯料加工成板型并平整,
c.根据要求加工成需要的尺寸和形状的箔片零件,
d.采用机械研磨和抛光对所述的箔片零件进行单面或双面的表面处理,研磨和抛光均采用碳化硼抛光液,研磨和抛光压力为5~50kg,研磨时间为10~120min,抛光时间为10~240min。
2.如权1所述的表面高光洁度的难熔金属合金箔片零件的制备方法,其特征在于所述的研磨用的碳化硼抛光液中碳化硼的粒径为5~16um。
3.如权1所述的表面高光洁度的难熔金属合金箔片零件的制备方法,其特征在于所述的抛光用碳化硼抛光液中碳化硼的粒径为0.3~5um。
4.如权1所述的表面高光洁度的难熔金属合金箔片零件的制备方法,其特征在于所述的平整为肉眼可见范围内的板面无缺陷,所述的缺陷为波浪、皱褶、裂纹。
5.如权1所述的表面高光洁度的难熔金属合金箔片零件的制备方法,其特征在于所述的机械加工采用电火花切割、车、铣、刨、磨中的一种或多种。
6.一种用权1方法制得的合金箔片零件,其特征在于零件厚度为0.05~0.95mm,表面粗糙度小于Ra0.002。
7.如权6所述的合金箔片零件,其特征在于所述的零件成分为100%wt的钨,或100%wt的钼,或由1~50%wt的铜和50~99%wt钨组成的合金,或由1~50%wt的铜和50~99%wt钼组成的合金。
8.如权6所述的合金箔片零件,其特征在于所述的零件形状是圆形、正方形、长方形。
9.权6所述合金箔片零件的应用,其特征在于,所述的合金箔片零件用于电子、通讯、半导体、大功率LED照明芯片、安全、医疗、军工、航天、航空、海洋领域的表面高光洁度的难熔金属及其合金箔片产品。
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